一种掩膜版及其制备方法、光刻方法与流程

文档序号:14478395阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开一种掩膜版及其制备方法、光刻方法,涉及光掩膜技术领域,以通过单个掩膜板实现两种图案的光刻,从而降低显示基板的制作成本。所述掩膜版包括透光基板,透光基板包括相对的第一表面和第二表面;第一表面和第二表面均形成有单向透光图案层,第一表面所形成的单向透光图案层的图案和第二表面所形成的单向透光图案层的图案不同,第一表面的单向透光图案层所透过的光线传播方向与第二表面的单向透光图案层所透过的光线传播方向相反。所述掩膜版的制作方法用于制作上述掩膜版。本发明提供的掩膜版及其制备方法、光刻方法用于光掩膜制作显示面板中。

技术研发人员:俞洋;刘晓伟;吴洪江;陈凡;李海光;廖加敏;罗时建;伍蓉
受保护的技术使用者:京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司
文档号码:201810004025
技术研发日:2018.01.03
技术公布日:2018.05.18

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