有机EL显示器的制造方法与流程

本发明涉及一种有机el显示器的制造方法。

背景技术：

例如，使用了有机发光二极管(oled：organiclightemittingdiode)的显示器(以下也称为“有机el(electroluminescence)显示器”。)中，为了抑制外光反射而使用圆偏振片。圆偏振片通过将直线偏振片和波长片(相位差板)以其偏振轴呈45度交叉的方式层叠来制作。

另外，例如，有时仅将波长片以其偏振轴倾斜15度、75度的方式形成。因此，需要以任意的角度形成偏振片和波长片。并且，为了使偏振片和波长片的偏振轴以任意的角度交叉，需要单独形成上述偏振片和波长片。

一直以来，这样的偏振片和波长片例如使用延伸膜来制作。延伸膜通过使膜在一个方向延伸并粘贴，使该材料中的分子取向在一个方向的膜。

但是，近年来，随着有机el显示器的薄型化，也要求偏振片和波长片的薄片化。但是，在制作偏振片和波长片时，如现有技术中那样使用了延伸膜的情况下，减小延伸膜自身的膜厚的作法存在极限，无法得到足够薄的片材。

因此，在基片上涂敷具有规定材料的涂敷液，形成所需的膜厚的偏振片、波长片，来实现薄片化。具体而言，例如，将作为规定材料的具有液晶性的涂敷液涂敷在基片上，并使其流延、取向。液晶分子在涂敷液中形成了超分子聚合体，当一边施加剪切应力一边使涂敷液流动时，超分子聚合体的长轴方向取向在流动方向。

为了能够如上述那样对基片涂敷涂敷液，一直以来，提出了各种各样的装置。例如，专利文献1所记载的偏振膜印刷装置包括：用于保持基片的台；和对基片排出墨液的狭槽式涂敷模头(slotdie)。使狭槽式涂敷模头在印刷方向移动来在基片上涂敷墨液。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本国特开2005-62502号公报

技术实现要素：

发明要解决的技术问题

发明人开发、研究了通过将涂敷液涂敷在基片上并使其干燥，来形成圆偏振片等光学部件的技术。

一直以来，与形成有有机发光二极管的基片分开来准备涂敷光学部件用的涂敷液的基片，将它们粘合在一起。

因此，基片、接合层等部件数量多，有机el显示器的薄型化不足，有机el显示器的柔性不够。

本发明是鉴于上述的技术问题而完成的，主要目的在于提供一种增强了薄型化和柔性的、具有光学部件的有机el显示器。

用于解决技术问题的技术方案

为了解决上述技术问题，依照本发明的一个方式，提供一种有机el显示器的制造方法，其包括光学部件形成步骤，该光学部件形成步骤在预先形成有有机发光二极管的基片上涂敷包含液晶分子和溶剂的光学膜用涂敷液并使其干燥，来形成液晶分子已取向的光学膜。

发明效果

依照本发明的一个方式，能够提供增强了薄型化和柔性的、具有光学部件的有机el显示器。

附图说明

图1是表示一实施方式的有机el显示器的俯视图。

图2是表示一实施方式的有机el显示器的主要部分的截面图。

图3是表示一实施方式的有机el显示器的制造方法的流程图。

图4是表示一实施方式的触摸传感器形成步骤的流程图。

图5是表示一实施方式的形成于基片上的第一金属膜的截面图。

图6是表示一实施方式的形成于第一金属膜上的抗蚀剂膜的截面图。

图7是表示一实施方式的曝光和显影后的抗蚀剂膜的截面图。

图8是表示一实施方式的蚀刻后的第一金属膜的截面图。

图9是表示一实施方式的除去抗蚀剂膜后的第一金属膜的截面图。

图10是表示一实施方式的形成于第一金属膜上的绝缘膜的截面图。

图11是表示一实施方式的除去形成于绝缘膜上的第二金属膜的一部分后的状态的俯视图。

图12是表示第一实施方式的光学部件形成步骤的流程图。

图13是表示第一实施方式的涂敷于基片上的第一光学膜用涂敷液的液膜的侧视图。

图14是表示第一实施方式的通过第一光学膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的第一光学膜的侧视图。

图15是表示第一实施方式的一部分不溶解的第一光学膜的侧视图。

图16是表示第一实施方式的涂敷于第一光学膜上的中间膜用涂敷液的液膜的侧视图。

图17是表示第一实施方式的通过中间膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的中间膜的侧视图。

图18是表示第一实施方式的除去了没有被中间膜覆盖的部分后的第一光学膜的侧视图。

图19是表示第一实施方式的涂敷于中间膜上的第二光学膜用涂敷液的液膜的侧视图。

图20是表示第一实施方式的通过第二光学膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的第二光学膜的侧视图。

图21是表示第一实施方式的一部分不溶解的第二光学膜的侧视图。

图22是表示第一实施方式的涂敷于第二光学膜上的保护膜用涂敷液的液膜的侧视图。

图23是表示第一实施方式的通过保护膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的保护膜的侧视图。

图24是表示第一实施方式的除了没有被保护膜覆盖的部分后的第二光学膜的侧视图。

图25是表示第二实施方式的光学部件形成步骤的流程图。

图26是表示第二实施方式的除去了没有不溶解的部分后的第一光学膜的侧视图。

图27是表示第二实施方式的涂敷于第一光学膜上的中间膜用涂敷液的液膜的侧视图。

图28是表示第二实施方式的通过中间膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的中间膜的侧视图。

图29是表示第二实施方式的涂敷于中间膜上的第二光学膜用涂敷液的液膜的侧视图。

图30是表示第二实施方式的通过第二光学膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的第二光学膜的侧视图。

图31是表示第二实施方式的一部分不溶解的第二光学膜的侧视图。

图32是表示第二实施方式的除去了没有不溶解的部分后的第二光学膜的侧视图。

图33是表示第二实施方式的涂敷于第二光学膜上的保护膜用涂敷液的液膜的侧视图。

图34是表示第二实施方式的通过保护膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的保护膜的侧视图。

具体实施方式

以下，参照附图，对用于实施本发明的实施方式进行说明。在各附图中，对相同或对应的结构标注相同或对应的附图标记，并省略说明。

<有机el显示器>

图1是表示一实施方式的有机el显示器的俯视图。在图1中，将一个单位电路11的电路放大表示。

有机el显示器1包括基片10、在基片10上排列的多个单位电路11、设置在基片10上的扫描线驱动电路14和设置在基片10上的数据线驱动电路15。在被与扫描线驱动电路14连接的多个扫描线16和与数据线驱动电路15连接的多个数据线17包围的区域设置单位电路11。单位电路11包括tft层12和有机发光二极管13。

tft层12具有多个tft(thinfilmtransistor：薄膜晶体管)。一个tft具有作为开关元件的功能，另一个tft具有作为控制流过有机发光二极管13的电流量的电流控制用元件的功能。tft层12通过扫描线驱动电路14和数据线驱动电路15而工作，将电流供给到有机发光二极管13。tft层12设置于每个单位电路11，能够独立地控制多个单位电路11。此外，tft层12为一般的结构即可，不限于图1所示的结构。

此外，有机el显示器1的驱动方式在本实施方式为有源矩阵方式，但是也可以为无源矩阵方式。

图2是表示一实施方式的有机el显示器的主要部分的截面图。图2所示的有机el显示器1是顶部发光方式，依次具有基片10、有机发光二极管13、密封层30、触摸传感器40和光学部件50。触摸传感器40在有机el显示器1为触摸面板的情况下，被组装到有机el显示器1中。

基片10可以为树脂基片、玻璃基片、半导体基片、金属基片等的任一者，从柔性提高的观点出发，优选树脂基片。从柔性提高和水分透射性降低的观点出发，基片10可以为树脂基片和玻璃基片的层叠基片。在基片10上形成有tft层12。在tft层12上形成有使由tft层12形成的高低差平坦化的平坦化层18。

平坦化层18具有绝缘性。在贯通平坦化层18的连接孔形成有连接插头19。连接插头19将形成在平坦化层18的平坦面的像素电极21和tft层12电连接。连接插头19可以与像素电极21由相同的材料同时形成。

有机发光二极管13形成在平坦化层18的平坦面上。有机发光二极管13包括：像素电极21；以像素电极21为基准设置在基片10相反侧的对置电极22；以及形成在像素电极21与对置电极22之间的有机层23。通过使tft层12工作，在像素电极21与对置电极22之间施加电压，有机层23发光。

像素电极21例如是阴极，由铝等金属材料形成，使来自有机层23的光向有机层23反射。由像素电极21反射的光透射有机层23、对置电极22，被取出到外部。像素电极21设置在每个单位电路11。

对置电极22例如是阳极，由ito(indiumtinoxide)等透明材料形成，使来自有机层23的光透射。透射对置电极22的光通过密封层30、触摸传感器40、光学部件50，被取出到外部。对置电极22在多个单位电路11中相同。

有机层23例如从阴极侧向阳极侧该如下顺序具有电子注入层24、电子输送层25、发光层26、空穴输送层27、空穴注入层28。当在阴极与阳极之间施加电压时，从阴极将电子注入到电子注入层24，并且从阳极将空穴注入到空穴注入层28。注入电子注入层24的电子由电子输送层25输送到发光层26。此外，注入空穴注入层28的空穴由空穴输送层27输送到发光层26。这样一来，在发光层26内空穴和电子复合，发光层26的发光材料被激发，发光层26发光。作为发光层26，例如形成发出红色光的红色发光层、发出绿色光的绿色发光层和发出蓝色光的蓝色发光层。

此外，在本实施方式中，有机层23从阴极侧阳极侧按如下顺序具有电子注入层24、电子输送层25、发光层26、空穴输送层27、空穴注入层28，不过至少具有发光层26即可。有机层23不限于图2所示的结构。

密封层30在其与基片10之间将有机发光二极管13密封。作为密封层30，可以使用氧化硅层、氮化硅层等，例如通过成膜温度在100℃以下的低温cvd形成。或者，也可以粘贴形成有防湿层的树脂膜作为密封层30。

触摸传感器40检测手指等物体对有机el显示器1的画面的接触或接近。触摸传感器40的检测方式没有特别限定，例如可以为静电电容方式。作为静电电容方式，有表面型静电电容方式、投影型静电电容方式等。作为投影型静电电容方式，有自电容方式、相电容方式等。当使用互电容方式时，能够同时进行多点检测，因而优选。

关于触摸传感器40，其形成在预先形成有有机发光二极管13的基片10上，详细情况在后文述说。因此，与如现有技术中那样触摸传感器40形成在基片10之外的基片上并与基片10贴合的情况相比，能够削减基片、接合层等部件的数量，因此能够使有机el显示器1薄型化，能够提高有机el显示器1的柔性。

触摸传感器40形成在有机发光二极管13与光学部件50之间。在光学部件50为抑制外光反射的圆偏振膜的情况下，圆偏振膜配置在比触摸传感器40靠光取出侧处，因此，能够提高外光反射的抑制效率。

光学部件50例如是抑制外光反射的圆偏振膜，在本实施方式中，作为第一光学膜具有1/4波长膜(λ/4膜)，作为第二光学膜具有直线偏振膜。1/4波长膜和直线偏振膜以其偏振轴呈45度交叉的方式形成。此外，构成光学部件50的光学膜的数量没有特别限定。

关于光学部件50，其形成在预先形成有有机发光二极管13的基片10上，详细情况在后文述说。因此，与如现有技术中那样光学部件50形成在基片10之外的基片上并与基片10贴合的情况相比，能够削减基片、接合层等部件的数量，因此能够使有机el显示器1薄型化，能够提高有机el显示器1的柔性。

为了抑制有机层23因紫外线而劣化，能够不使用紫外线照射地制造光学部件50。此外，为了抑制有机层23因热而劣化，能够在100℃以下的温度制造光学部件50。

另外，图2所示的有机el显示器1是顶部发光方式，不过也可以为底部发光方式。在底部发光方式的情况下，来自发光层26的光透射像素电极21从基片10被取出，因此，作为透明电极的阳极被用作像素电极21，作为反射电极的阴极被用作对置电极22。即，在底部发光方式的情况下，阳极和阴极的配置颠倒。此外，在底部发光方式的情况下，基片10是透明基片。而且，在底部发光方式的情况下，触摸传感器40、光学部件50以基片10为基准形成在有机发光二极管13的相反侧。

<有机el显示器的制造方法>

图3是表示一实施方式的有机el显示器的制造方法的流程图。如

图3所示，有机el显示器1的制造方法包括触摸传感器形成步骤s110和光学部件形成步骤s120。此外，触摸传感器形成步骤s110在有机el显示器1为触摸面板的情况下进行。以下，对各步骤进行说明。

<触摸传感器形成步骤>

在光学部件形成步骤s120之前，触摸传感器形成步骤s110在预先形成有有机发光二极管13的基片10上形成触摸传感器40。因此，与如现有技术中那样触摸传感器40形成在基片10之外的基片并与基片10贴合的情况相比，能够削减基片、接合层等部件的数量，因此能够使有机el显示器1薄型化，能够提高有机el显示器1的柔性。

图4是表示一实施方式的触摸传感器形成步骤的流程图。图5是表示一实施方式的形成于基片上的第一金属膜的截面图。图6是表示一实施方式的形成于第一金属膜上的抗蚀剂膜的截面图。图7是表示一实施方式的曝光和显影后的抗蚀剂膜的截面图。图8是表示一实施方式的蚀刻后的第一金属膜的截面图。图9是表示一实施方式的除去抗蚀剂膜后的第一金属膜的截面图。图10是表示一实施方式的形成于第一金属膜上的绝缘膜的截面图。图11是表示一实施方式的除去形成于绝缘膜上的第二金属膜的一部分后的状态的俯视图。图5～图10是沿图11的a-a线的截面图。在图5～图11中，省略图2所示的有机发光二极管13、密封层30等的图示。

触摸传感器形成步骤s110包括：在基片10上形成遮光性的第一金属膜41的步骤s111；以及通过光刻法和蚀刻法选择性地除去第一金属膜41的一部分的步骤s112。如图5所示，第一金属膜41形成在基片10上(更详细而言，例如密封层30上)。如图6所示，在第一金属膜41上形成抗蚀剂膜42。抗蚀剂膜42通过曝光和显影如图7所示被图案化。抗蚀剂膜42可以为已曝光的部分通过显影而被除去的正性型，也可以为已曝光的部分在显影后残留的负性型。曝光的光被第一金属膜41遮挡，因此没有使有机发光二极管13劣化的问题。之后，使用已图案化的抗蚀剂膜42作为掩模，如图8所示选择性地除去第一金属膜41的一部分。一部分被选择性地除去的第一金属膜41如图11中虚线所示在俯视时形成为条纹状。之后，第一金属膜41的图案化中使用的抗蚀剂膜42如图9所示被除去。

此外，在本说明书中，第一金属膜41具有遮光性是指第一金属膜41的透射率为5％以下。优选第一金属膜41的透射率为3％以下。此处，第一金属膜41的透射率是将形成在第一金属膜41上的抗蚀剂膜42曝光的光(例如，波长365nm的光)透射第一金属膜41的比例。第一金属膜41例如由铜形成。

另外，触摸传感器形成步骤s110包括在一部分被选择性地除去的第一金属膜41上形成绝缘膜43的步骤s113。绝缘膜43使第一金属膜41与第二金属膜45绝缘。作为绝缘膜43可以使用氧化硅膜、氮化硅膜等，例如通过成膜温度在100℃以下的低温cvd形成。

并且，触摸传感器形成步骤s110包括：在绝缘膜43上形成遮光性的第二金属膜45的步骤s114；以及通过光刻法和蚀刻法选择性地除去第二金属膜45的一部分的步骤s115。第二金属膜45的形成和第二金属膜的一部分除去，与第一金属膜41的形成和第一金属膜41的一部分除去以同样的方式进行。一部分被选择性地除去的第二金属膜45如图11所示在俯视时形成为条纹状。之后，第二金属膜45的图案化中使用的抗蚀剂膜被除去。

此外，在本说明书中，第二金属膜45具有遮光性是指第二金属膜45的透射率为5％以下。优选第二金属膜45的透射率为3％以下。此处，第二金属膜45的透射率是将形成在第二金属膜45上的抗蚀剂膜曝光的光(例如，波长365nm的光)透射第二金属膜45的比例。第二金属膜45例如由铜形成。

触摸传感器形成步骤s110还包括在一部分被选择性地除去的第二金属膜45上形成触摸传感器保护膜47的步骤s116。触摸传感器保护膜47与绝缘膜43以同样的方式形成。例如，作为触摸传感器保护膜47，可以使用氧化硅膜、氮化硅膜等，例如通过成膜温度在100℃以下的低温cvd形成。

如上所述，能够获得由第一金属膜41、绝缘膜43、第二金属膜45、和触摸传感器保护膜47构成的触摸传感器40。导线状的第一金属膜41、导线状的第二金属膜45以在俯视时不与有机发光二极管13的有机层23重叠的方式如图11所示形成为方格状。即，在俯视时，在方格的开口部配置有机层23。容易将来自有机层23的光取出到外部。将第一金属膜41和第二金属膜45的任一者作为驱动电极使用，将另一者作为接收电极使用。触摸传感器40检测驱动电极与接收电极之间的电容变化，来检测手指等物体对有机el显示器1的画面的接触或接近。

依照本实施方式的触摸传感器形成步骤s110，能够一边抑制光刻法的曝光所导致的有机发光二极管13的有机层23的劣化，一边在预先形成有有机发光二极管13的基片10上形成触摸传感器40。与如现有技术那样触摸传感器40形成在基片10之外的基片并与基片10贴合的情况相比，能够削减基片、接合层等部件的数量，因此能够使有机el显示器1薄型化，能够提高有机el显示器1的柔性。

本实施方式的触摸传感器形成步骤s110在光学部件形成步骤s120之前进行，因此触摸传感器40形成在有机发光二极管13与光学部件50之间。在光学部件50为抑制外光反射的圆偏振膜的情况下，圆偏振膜配置在比触摸传感器40靠光取出侧处，因此能够提高外光反射的抑制效率。

<光学部件形成步骤>

光学部件形成步骤s120通过在预先形成有有机发光二极管13的基片10上涂敷包含液晶分子和溶剂的光学膜用涂敷液并使其干燥，来形成液晶分子已取向的光学膜。由光学膜等构成光学部件50。

光学部件50例如包括第一光学膜和第二光学膜。第一光学膜和第二光学膜任一者是相位差膜，另一者为偏振膜。

光学部件50例如是抑制外光反射的圆偏振膜，在本实施方式中，作为第一光学膜具有1/4波长膜(λ/4膜)，作为第二光学膜具有直线偏振膜。1/4波长膜和直线偏振膜以其偏振轴呈45度交叉的方式形成。此外，构成光学部件50的光学膜的的数量没有特别限定。

依照本实施方式的光学部件形成步骤s120，光学部件50在预先形成有有机发光二极管13的基片10上形成。因此，与如现有技术中那样光学部件50形成在基片10之外的基片并与基片10贴合的方式相比，能够削减基片、接合层等部件数量，因此，能够使有机el显示器1薄型化，能够提高有机el显示器1的柔性。

依照本实施方式的光学部件形成步骤s120，为了抑制有机层23因紫外线而劣化，能够不使用紫外线照射地制造光学部件50。此外，为了抑制有机层23因热而劣化，能够在100℃以下的温度制造光学部件50。

<第一实施方式的光学部件形成步骤>

图12是表示第一实施方式的光学部件形成步骤的流程图。如图12所示，光学部件形成步骤s120按如下顺序包括第一光学膜形成步骤s121、中间膜形成步骤s122、第一光学膜图案化步骤s123、第二光学膜形成步骤s124、保护膜形成步骤s125和第二光学膜图案化步骤s126。以下对各步骤进行说明。

此外，也可以不进行图12所示的所有的步骤。例如，第一光学膜图案化步骤s123、第二光学膜图案化步骤s126(详细情况在后文述说)在基片10上隔开间隔地形成多个光学部件50的情况下是有效的，但是在基片10上仅形成一个光学部件50的情况下可以省略。后述的一部分不溶解的处理也是相同的。

另外，可以进行图12所示的步骤以外的步骤。例如，在第一光学膜形成步骤s121之前，为了改善第一光学膜对基片10的紧贴性，可以进行对基片10的要形成第一光学膜的面(更具体而言，密封层30或者触摸传感器保护膜47)进行表面改性的步骤。作为表面改性膜，可以形成硅烷偶联剂等的有机膜或氮化硅等的无机膜。

<第一实施方式的第一光学膜形成步骤>

在图12的第一光学膜形成步骤s121中，如图13～图15所示，将包含液晶分子和溶剂的第一光学膜用涂敷液61涂敷在基片10上并使其干燥，来形成第一光学膜62。第一光学膜62例如是1/4波长膜。

图13是表示第一实施方式的涂敷于基片上的第一光学膜用涂敷液的液膜的侧视图。图14是表示第一实施方式的通过第一光学膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的第一光学膜的侧视图。图15是表示第一实施方式的一部分不溶解的第一光学膜的侧视图。

在图13～图15中，省略图2所示的有机发光二极管13、密封层30等的图示。此外，在图16～图24中，同样省略图2所示的有机发光二极管13、密封层30等的图示。

如图13所示，在第一光学膜形成步骤s121中，从涂敷嘴60将第一光学膜用涂敷液61涂敷在基片10上。涂敷嘴60例如是在下表面具有狭缝状的排出口的狭缝涂敷器(slitcoater)。

第一光学膜用涂敷液61包含溶致液晶分子或热致液晶分子等液晶分子以及使液晶分子溶解的溶剂。作为溶剂例如可以使用水等。此外，作为溶剂，也可以使用有机溶剂。

使涂敷嘴60和基片10相对地在一个方向移动，能够对涂敷在基片10的第一光学膜用涂敷液61施加剪切应力。剪切应力的作用方向与涂敷嘴60和基片10的相对的移动方向一致。通过控制剪切应力的作用方向，能够控制液晶分子的取向方向。

此外，在本实施方式中，第一光学膜用涂敷液61的涂敷中使用狭缝涂敷器，不过也可以使用浸渍涂敷器(dipcoater)等。只要能够对第一光学膜用涂敷液61施加剪切应力，能够控制该剪切应力的作用方向即可。

如图14所示，在第一光学膜形成步骤s121中，将涂敷于基片10上的第一光学膜用涂敷液61的液膜(参照图13)干燥，而形成第一光学膜62。从第一光学膜用涂敷液61的液膜将溶剂除去，恰当地维持液晶分子的取向。第一光学膜62例如是1/4波长膜。

第一光学膜用涂敷液61的液膜的干燥能够采用减压干燥、自然干燥、加热干燥、风干干燥等。减压干燥与自然干燥相比能够缩短处理时间。此外，减压干燥与加热干燥和风干干燥相比，能够抑制液膜的对流，能够抑制液晶分子的取向的混乱。在减压干燥中残留有溶剂的情况下，可以还进行加热干燥。

如图15所示，在第一光学膜形成步骤s121中，也可以仅使第一光学膜62的一部分63不溶于第一光学膜图案化步骤s123中使用的清洗液。能够根据需要来进行该一部分不溶解的作法。

此外，作为第一光学膜图案化步骤s123中使用的清洗液，可以使用与第一光学膜用涂敷液61的溶剂相同的清洗液，例如可以使用水。在该情况下，进行不溶于水的作法。

使第一光学膜62的一部分63不溶解的固定液110例如从喷墨方式的涂敷嘴111被排出。涂敷嘴111在下表面具有多个排出固定液110的液滴的排出嘴。

一边使涂敷嘴111与基片10相对地移动，一边从涂敷嘴111排出固定液110的液滴，从而将固定液110选择性地涂敷在第一光学膜62的一部分63。由此，使第一光学膜62的一部分63不溶解。

固定液110例如通过将第一光学膜62的末端的功能基团(例如，oh基等水溶性的功能基团)置换为其他的功能基团，来使第一光学膜62的一部分63不溶解。此外，也可以为固定液110通过缩合反应(例如，oh基等的脱水缩合反应)而高分子化，使第一光学膜62的一部分63不溶解。在后者的情况下，与前者的情况相比，由于高分子化进展，因此不溶解容易进展。

固定液110在使第一光学膜62的一部分63成为不溶解的状态后被除去。固定液110可以含有水，也可以含有有机溶剂。

涂敷固定液110的区域例如可以为供多个oled等像素形成的区域(以下称为“像素区域”。)。

此外，在本实施方式中，为了仅在第一光学膜62的一部分63涂敷固定液110，使用喷墨方式的涂敷嘴111，不过本发明不限于此。例如，也可以用掩模仅覆盖第一光学膜62的其余部分，然后将基片10整体浸渍在固定液110中，从而仅在第一光学膜62的一部分63涂敷固定液。

<第一实施方式的中间膜形成步骤>

在图12的中间膜形成步骤s122中，如图16～图17所示，将不同于第一光学膜用涂敷液61的中间膜用涂敷液71涂敷在第一光学膜62上并使其干燥，来形成中间膜72。

图16是表示第一实施方式的涂敷于第一光学膜上的中间膜用涂敷液的液膜的侧视图。图17是表示第一实施方式的通过中间膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的中间膜的侧视图。

如图16所示，在中间膜形成步骤s122中，从涂敷嘴70将中间膜用涂敷液71涂敷在形成有第一光学膜62的基片10上。涂敷嘴70可以为喷墨方式的，具有多个向下表面排出中间膜用涂敷液71的液滴的排出嘴。

一边使涂敷嘴70与基片10相对地移动，一边从涂敷嘴70排出中间膜用涂敷液71的液滴，选择性地将中间膜用涂敷液71涂敷在第一光学膜62的一部分63。

中间膜用涂敷液71被涂敷在第一光学膜62上。因此，形成第一光学膜62的液晶分子相对于中间膜用涂敷液71的溶剂具有不溶性即可。能够防止因涂敷中间膜用涂敷液71而第一光学膜62溶解。

中间膜用涂敷液71包含形成中间膜72的有机材料和将该有机材料溶解的溶剂。形成中间膜72的有机材料包含相对于第一光学膜图案化步骤s123中使用的清洗液呈不溶性的高分子等。

作为中间膜用涂敷液71例如可以使用热固化型的透明涂料、化学反应型的透明涂料、干燥固化型的透明涂料等。具体而言，可以为油性珐琅涂料、邻苯二甲酸树脂涂料等。

热固化型的透明涂料、化学反应型的透明涂料、干燥固化型的透明涂料等通过热固化、化学反应或者干燥固化而高分子化，因此能够形成致密的中间膜72。因此，能够提高中间膜72相对于第一光学膜图案化步骤s123中使用的清洗液的不溶性。

中间膜用涂敷液71可以具有与固定液110相同的功能。能够促进第一光学膜62的一部分不溶解。此外，在用中间膜用涂敷液71使第一光学膜62的一部分不溶解的情况下，也可以在上述第一光学膜形成步骤s121中不使第一光学膜62的一部分不溶解。

例如，中间膜用涂敷液71也可以通过将第一光学膜62的末端的功能基团(例如，oh基等水溶性的功能基团)置换为其他的功能基团，来使第一光学膜62的一部分63不溶解。此外，中间膜用涂敷液71也可以通过缩合反应(例如，oh基等的脱水缩合反应)而高分子化，使第一光学膜62的一部分63不溶解。在后者的情况下，与前者的情况相比，高分子化进展，因此不溶解容易进展。

涂敷中间膜用涂敷液71的区域可以与涂敷固定液110的区域一致。例如，涂敷中间膜用涂敷液71的区域可以为基片10上的像素区域。

如图17所示，在中间膜形成步骤s122中，使涂敷在基片10上的中间膜用涂敷液71的液膜(参照图16)干燥，而形成中间膜72。从中间膜用涂敷液71的液膜除去溶剂，形成中间膜72。

中间膜用涂敷液71的液膜的干燥可以采用减压干燥、自然干燥、加热干燥、风干干燥等。减压干燥与自然干燥相比，能够缩短处理时间。在减压干燥中残留有溶剂的情况下，可以还进行加热干燥。

中间膜72相对于第一光学膜图案化步骤s123中使用的清洗液具有不溶性。中间膜72与第一光学膜62不同，具有各向同性的光学特性。优选中间膜72的可见光透射率在95％以上。此外，优选中间膜72的膜厚在10μm以下。此外，为了抑制光学部件的变形，优选中间膜72的残留应力越小越好。

中间膜72覆盖第一光学膜62的一部分63的主表面。中间膜72也起到保护第一光学膜62的一部分63的作用，以使得不在第一光学膜62的一部分63产生伤痕、附着异物等。优选中间膜72的铅笔硬度在2h以上。在光学部件的制造在中途暂时中断至再次开始为止耗费时间的情况下，产生伤痕、附着异物的风险较高，因此尤其有效。

此外，第一光学膜62的其余部分在第一光学膜图案化步骤s123中被除去，因此，产生伤痕、存在异物的情况并不成为问题。此外，附着于中间膜72的异物能够通过清洗来除去，不存在因该清洗而在第一光学膜62的一部分63产生伤痕的情况。

<第一实施方式的第一光学膜图案化步骤>

在图12的第一光学膜图案化步骤s123中，在中间膜形成步骤s122后，第二光学膜形成步骤s124之前，将仅覆盖第一光学膜62的一部分63(参照图17)的中间膜72作为掩模使用，如图18所示除去第一光学膜62的其余部分。

图18是表示第一实施方式的除去了没有被中间膜覆盖的部分的第一光学膜的侧视图。在第一光学膜图案化步骤s123中，能够用中间膜72保护第一光学膜62的一部分63，能够抑制第一光学膜62的一部分63的形状崩坏。因此，能够提高光学部件的品质。

例如，在第一光学膜图案化步骤s123中，使用溶解第一光学膜62的清洗液。关于清洗液，例如一边用旋转卡盘使基片10旋转，一边被供给到基片10。供给到基片10的清洗液因离心力而扩散到整个基片10，从基片10的外周缘被甩去。

第一光学膜62的一部分63被中间膜72覆盖，因此，不与清洗液接触，不会因清洗液而形状崩坏。另一方面，第一光学膜62的其余部分与清洗液接触，因此能够被清洗液溶解而除去。

此外，也可以将清洗液储存在清洗槽中，通过将基片10浸渍在清洗槽的清洗液中，而使第一光学膜62的一部分63残留，并且将第一光学膜62的其余部分溶解而除去。也可以用搅拌片等来搅拌清洗槽的清洗液。

为了可靠地残留第一光学膜62的一部分63，在上述第一光学膜形成步骤s121、上述中间膜形成步骤s122中，使第一光学膜62的一部分63不溶于清洗液的作法是有效的。能够防止因清洗液迂绕而导致过度的除去，能够可靠地残留第一光学膜62的一部分63。

此外，中间膜72具有对清洗液的不溶性，因此，在上述第一光学膜形成步骤s121、上述中间膜形成步骤s122中，即使不使第一光学膜62的一部分不溶解，也能够使第一光学膜62的图案化。在该情况下，能够减少步骤数。

在上述第一光学膜形成步骤s121中，由于一边施加剪切应力一边涂敷第一光学膜用涂敷液61，因此难以仅在像素区域涂敷第一光学膜用涂敷液61。所以，进行第一光学膜图案化步骤s123的作法是有效的。

此外，在本实施方式中使用清洗液除去第一光学膜62的其余部分，但是，第一光学膜62的其余部分的除去方法没有特别限定。例如，可以使用蚀刻法。蚀刻可以为湿蚀刻、干蚀刻的任一者。

以下，将第一光学膜图案化步骤s123中残留的第一光学膜62的一部分63称为“第一光学膜63”。

<第一实施方式的第二光学膜形成步骤>

在图12的第二光学膜形成步骤s124中，如图19～图21所示，将包含液晶分子和溶剂的第二光学膜用涂敷液81涂敷在中间膜72上并使其干燥，来形成第二光学膜82。第二光学膜82例如是直线偏振膜。

图19～图21是第一实施方式的第二光学膜形成步骤的说明侧视图。图19是表示第一实施方式的涂敷于中间膜上的第二光学膜用涂敷液的液膜的侧视图。图20是表示第一实施方式的通过第二光学膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的第二光学膜的侧视图。图21是表示第一实施方式的一部分不溶解的第二光学膜的侧视图。

如图19所示，在第二光学膜形成步骤s124中，从涂敷嘴80将第二光学膜用涂敷液81涂敷在基片10上。涂敷嘴80例如是在下表面具有狭缝状的排出口的狭缝涂敷器。

第二光学膜用涂敷液81被涂敷在中间膜72上。因此，形成中间膜72的有机材料相对于第二光学膜用涂敷液81的溶剂具有不溶性即可。能够防止因涂敷第二光学膜用涂敷液81而中间膜72溶解。

第二光学膜用涂敷液81包含溶致液晶分子和热致液晶分子等液晶分子以及使液晶分子溶解的溶剂。作为溶剂，例如可以使用水等。此外，作为溶剂，也可以使用有机溶剂。

通过使涂敷嘴80与基片10相对地在一个方向移动，能够对涂敷在基片10的第二光学膜用涂敷液81施加剪切应力。剪切应力的作用方向与涂敷嘴80和基片10的相对的移动方向一致。通过控制剪切应力的作用方向，能够控制液晶分子的取向方向。

第二光学膜形成步骤s124中的剪切应力的作用方向，为相对于第一光学膜形成步骤s121中的剪切应力的作用方向倾斜45°地交叉的方向。由此，1/4波长膜和直线偏振膜以其偏振轴呈45度交叉的方式形成。

此外，在本实施方式中，第二光学膜用涂敷液81的涂敷中使用狭缝涂敷器，不过也可以使用浸渍涂敷器等。只要能够对第二光学膜用涂敷液81施加剪切应力，能够控制该剪切应力的作用方向即可。

如图20所示，在第二光学膜形成步骤s124中，使涂敷于基片10上的第二光学膜用涂敷液81的液膜(参照图19)干燥，而形成第二光学膜82。从第二光学膜用涂敷液81的液膜除去溶剂，恰当地维持液晶分子的取向。第二光学膜82例如是直线偏振膜。

第二光学膜用涂敷液81的液膜的干燥可以采用减压干燥、自然干燥、加热干燥、风干干燥等。减压干燥与自然干燥相比，能够缩短处理时间。此外，减压干燥与加热干燥、风干干燥相比，能够抑制液膜的对流，能够抑制液晶分子的取向的混乱。在减压干燥中残留有溶剂的情况下，可以还进行加热干燥。

如图21所示，在第二光学膜形成步骤s124中，可以仅使第二光学膜82的一部分83不溶于第二光学膜图案化步骤s126中使用的清洗液。能够根据需要来进行该一部分不溶解的作法。

此外，作为第二光学膜图案化步骤s126中使用的清洗液，可以使用与第二光学膜用涂敷液81的溶剂相同的清洗液，例如可以使用水。在该情况下，进行不溶于水的作法。

使第二光学膜82的一部分83不溶解的固定液120例如从喷墨方式的涂敷嘴121被排出。涂敷嘴121在下表面具有多个排出固定液120的液滴的排出嘴。

一边使涂敷嘴121与基片10相对地移动，一边从涂敷嘴121排出固定液120的液滴，从而将固定液120选择性地涂敷在第二光学膜82的一部分83。由此，使第二光学膜82的一部分83不溶解。

固定液120例如将第二光学膜82的末端的功能基团(例如，oh基等水溶性的功能基团)置换为其他的功能基团，使第二光学膜82的一部分83不溶解。此外，固定液120也可以通过缩合反应(例如，oh基等的脱水缩合反应)而高分子化，使第二光学膜82的一部分83不溶解。在后者的情况下，与前者的情况相比，高分子化进展，因此，不溶解容易进展。

固定液120在使第二光学膜82的一部分83不溶解后被除去。固定液120可以包含水，也可以包含有机溶剂。

涂敷固定液120的区域例如可以是像素区域。

此外，在本实施方式中，由于仅在第二光学膜82的一部分83涂敷固定液120，因此使用喷墨方式的涂敷嘴121，不过本发明不限于此。例如，也可以用掩模仅覆盖第二光学膜82的其余部分，然后将基片10整体浸渍在固定液120中，由此仅在第二光学膜82的一部分83涂敷固定液。

<第一实施方式的保护膜形成步骤>

在图12的保护膜形成步骤s125中，如图22～图23所示，将不同于第二光学膜用涂敷液81的保护膜用涂敷液91涂敷在第二光学膜82上并使其干燥，来形成保护膜92。

图22是表示第一实施方式的涂敷于第二光学膜上的保护膜用涂敷液的液膜的侧视图。图23是表示第一实施方式的通过保护膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的保护膜的侧视图。

如图22所示，在保护膜形成步骤s125中，从涂敷嘴90将保护膜用涂敷液91涂敷在形成有第二光学膜82的基片10上。涂敷嘴90可以为喷墨方式，具有多个向下表面排出保护膜用涂敷液91的液滴的排出嘴。

一边使涂敷嘴90与基片10相对地移动，一边从涂敷嘴90排出保护膜用涂敷液91的液滴，从而将保护膜用涂敷液91选择性地涂敷在第二光学膜82的一部分83。

保护膜用涂敷液91被涂敷在第二光学膜82上。因此，形成第二光学膜82的液晶分子相对于保护膜用涂敷液91的溶剂具有不溶性即可。能够防止因涂敷保护膜用涂敷液91而第二光学膜82溶解。

保护膜用涂敷液91包含形成保护膜92的有机材料和将该有机材料溶解的溶剂。形成保护膜92的有机材料包含相对于第二光学膜图案化步骤s126中使用的清洗液呈不溶性的高分子等。

作为保护膜用涂敷液91，例如可以使用热固化型的透明涂料、化学反应型的透明涂料、干燥固化型的透明涂料等。具体而言，可以油性珐琅涂料、邻苯二甲酸树脂涂料等。

热固化型的透明涂料、化学反应型的透明涂料、干燥固化型的透明涂料等通过热固化、化学反应或者干燥固化而被高分子化，因此能够形成致密的保护膜92。因此，能够提高保护膜92相对于第二光学膜图案化步骤s126中使用的清洗液的不溶性。

保护膜用涂敷液91可以具有与固定液120相同的功能。能够促进第二光学膜82的一部分不溶解。此外，在用保护膜用涂敷液91使第二光学膜82的一部分不溶解的情况下，也可以在上述第二光学膜形成步骤s124中不使第二光学膜82的一部分不溶解。

例如，保护膜用涂敷液91可以将第二光学膜82的末端的功能基团(例如，oh基等水溶性的功能基团)置换为其他的功能基团，来使第二光学膜82的一部分83不溶解。此外，保护膜用涂敷液91也可以通过缩合反应(例如，oh基等的脱水缩合反应)而高分子化，从而使第二光学膜82的一部分83不溶解。在后者的情况下，与前者的情况相比，高分子化进展，因此，不溶解容易进展。

涂敷保护膜用涂敷液91的区域可以与涂敷固定液120的区域一致。例如，涂敷保护膜用涂敷液91的区域可以为基片10上的像素区域。

如图23所示，在保护膜形成步骤s125中，使涂敷于基片10上的保护膜用涂敷液91的液膜(参照图22)干燥，而形成保护膜92。从保护膜用涂敷液91的液膜除去溶剂，形成保护膜92。

保护膜用涂敷液91的液膜的干燥可以采用减压干燥、自然干燥、加热干燥、风干干燥等。减压干燥与自然干燥相比能够缩短处理时间。在减压干燥中残留有溶剂的情况下，可以还进行加热干燥。

保护膜92相对于第二光学膜图案化步骤s126中使用的清洗液具有不溶性。保护膜92与第二光学膜82不同，具有各向同性的光学特性。优选保护膜92的可见光透射率在95％以上。此外，优选保护膜92的膜厚在10μm以下。另外，为了抑制光学部件的变形，优选保护膜92的残留应力越小越好。

保护膜92覆盖第二光学膜82的一部分83的主表面。保护膜92起到保护第二光学膜82的一部分83的作用，以使得不在第二光学膜82的一部分83产生伤痕、附着异物等。优选中间膜72的铅笔硬度在2h以上。

此外，第二光学膜82的其余部分在第二光学膜图案化步骤s126中被除去，因此，产生伤痕、附着异物的情况并不成为问题。另外，附着于保护膜92的异物能够通过清洗来除去，不存在因该清洗而在第二光学膜82的一部分83产生伤痕的情况。

此外，本实施方式的保护膜92是通过将保护膜用涂敷液91涂敷在第二光学膜82上使其干燥而形成的，不过也可以以膜的形态粘贴在第二光学膜82。

<第一实施方式的第二光学膜图案化步骤>

在图12的第二光学膜图案化步骤s126中，保护膜形成步骤s125之后，将仅覆盖第二光学膜82的一部分83的保护膜92(参照图23)作为掩模使用，如图24所示除去第二光学膜82的其余部分。

图24是表示第一实施方式的除去了没有被保护膜覆盖的部分后的第二光学膜的侧视图。在第二光学膜图案化步骤s126中，能够用保护膜92保护第二光学膜82的一部分83，能够抑制第二光学膜82的一部分83的形状崩坏。因此，能够提高光学部件的品质。

例如，在第二光学膜图案化步骤s126中，使用溶解第二光学膜82的清洗液。关于清洗液，例如一边用旋转卡盘使基片10旋转，一边被供给到基片10。供给到基片10的清洗液因离心力而扩散到整个基片10，从基片10的外周缘被甩去。

第二光学膜82的一部分83被保护膜92覆盖，因此不与清洗液接触，不会因清洗液而形状崩坏。另一方面，第二光学膜82的其余部分与清洗液接触，因此能够被清洗液溶解而除去。

此外，也可以将清洗液储存在清洗槽中，通过将基片10浸渍在清洗槽的清洗液中，而使第二光学膜82的一部分83残留，并且将第二光学膜82的其余部分溶解而除去。也可以用搅拌片等来搅拌清洗槽的清洗液。

为了可靠地残留第二光学膜82的一部分83，在上述第二光学膜形成步骤s124、上述保护膜形成步骤s125中，使第二光学膜82的一部分83不溶于清洗液的作法是有效的。能够防止因清洗液的迂绕而导致过度的除去，能够可靠地残留第二光学膜82的一部分83。

此外，保护膜92具有对清洗液的不溶性，因此在上述第二光学膜形成步骤s124、上述保护膜形成步骤s125中，即使不使第二光学膜82的一部分不溶解，也能够进行第二光学膜82的图案化。在该情况下，能够减少步骤数。

在上述第二光学膜形成步骤s124中，一边施加剪切应力一边涂敷第二光学膜用涂敷液81，因此难以仅在像素区域涂敷第二光学膜用涂敷液81。所以，进行第二光学膜图案化步骤s126的作法是有效的。

此外，在本实施方式中使用清洗液来除去第二光学膜82的其余部分，不过第二光学膜82的其余部分的除去方法没有特别限定。例如，可以使用蚀刻法。蚀刻可以为湿蚀刻、干蚀刻的任一者。

以下，将第二光学膜图案化步骤s126中残留的第二光学膜82的一部分83称为“第二光学膜83”。

依照本实施方式，如图24所示，由第一光学膜63、中间膜72、第二光学膜83和保护膜92构成的光学部件50在基片10上隔开间隔地形成多个。因此，能够实现光学部件50的多面拼版，能够实现有机el显示器1的多面拼版。另外，光学部件50选择性地形成在像素区域，因此设置于像素区域的周围的端子能够恰当地发挥功能。

<第一实施方式的光学部件形成步骤的总结>

如以上所说明的那样，依照本实施方式，按如下顺序进行第一光学膜形成步骤s121、中间膜形成步骤s122和第二光学膜形成步骤s124。在第一光学膜63与第二光学膜83之间形成中间膜72。中间膜72能够保护第一光学膜63，以使得不在第一光学膜63产生伤痕、附着异物等。因此，能够提高光学部件50的品质。在光学部件50的制造在中途暂时中断至再次开始为止耗费时间的情况下，产生伤痕、附着异物的风险较高，因此尤其有效。

依照本实施方式，在中间膜形成步骤s122之后第二光学膜形成步骤s124之前，将仅覆盖第一光学膜62的一部分63的中间膜72作为掩模使用，进行除去第一光学膜62的其余部分的第一光学膜图案化步骤s123。在第一光学膜图案化步骤s123中，能够用中间膜72保护第一光学膜62的一部分63，能够抑制第一光学膜62的一部分63的形状崩坏。因此，能够提高光学部件50的品质。

依照本实施方式，在第一光学膜图案化步骤s123中，使用溶解第一光学膜62的清洗液。第一光学膜62的一部分63被中间膜72覆盖，因此不与清洗液接触，不会因清洗液而形状崩坏。另一方面，第一光学膜62的其余部分与清洗液接触，因此能够被清洗液溶解而除去。

依照本实施方式，在第一光学膜形成步骤s121中，仅使第一光学膜62的一部分63不溶于第一光学膜图案化步骤s123中使用的清洗液。因此，在第一光学膜图案化步骤s123中，能够防止因清洗液迂绕而导致过度的除去，能够可靠地残留第一光学膜62的一部分63。

依照本实施方式，在中间膜形成步骤s122中，通过仅在第一光学膜62的一部分63涂敷中间膜用涂敷液71，而仅使第一光学膜62的一部分63不溶于第一光学膜图案化步骤s123中使用的清洗液。因此，在第一光学膜图案化步骤s123中，能够防止因清洗液迂绕而导致过度的除去，能够可靠地残留第一光学膜62的一部分63。

依照本实施方式，进行形成保护第二光学膜83的保护膜92的保护膜形成步骤s125。保护膜92能够保护第二光学膜83，以使得在制造了光学部件50后，不在第二光学膜83上产生伤痕、附着异物等。因此，能够提高光学部件50的品质。

依照本实施方式，在保护膜形成步骤s125之后，将仅覆盖第二光学膜82的一部分83的保护膜92作为掩模使用，进行除去第二光学膜82的其余部分的第二光学膜图案化步骤s126。在第二光学膜图案化步骤s126中，能够用保护膜92保护第二光学膜82的一部分83，能够抑制第二光学膜82的一部分83的形状崩坏。因此，能够提高光学部件50的品质。

依照本实施方式，在第二光学膜图案化步骤s126中，使用溶解第二光学膜82的清洗液。第二光学膜82的一部分83被保护膜92覆盖，因此不与清洗液接触，不会因清洗液而形状崩坏。另一方面，第二光学膜82的其余部分与清洗液接触，因此能够被清洗液溶解而除去。

依照本实施方式，在第二光学膜形成步骤s124中，仅使第二光学膜82的一部分83不溶于第二光学膜图案化步骤s126中使用的清洗液。因此，在第二光学膜图案化步骤s126中，能够防止因清洗液迂绕而导致过度的除去，能够可靠地残留第二光学膜82的一部分83。

依照本实施方式，在保护膜形成步骤s125中，仅在第二光学膜82的一部分83涂敷保护膜用涂敷液91，仅使第二光学膜82的一部分83不溶于第二光学膜图案化步骤s126中使用的清洗液。因此，在第二光学膜图案化步骤s126中，能够防止因清洗液迂绕而导致过度的除去，能够可靠地残留第二光学膜82的一部分83。

<第二实施方式的光学部件形成步骤>

在上述第一实施方式中，在中间膜形成步骤s122后进行第一光学膜图案化步骤s123，与此相对，本实施方式中，在第一光学膜图案化步骤s123后进行中间膜形成步骤s122，这一点不同。

因此，本实施方式的中间膜72与上述第一实施方式不同，不起到用于使第一光学膜62的一部分63残留，除去第一光学膜62的其余部分的掩模的作用。本实施方式的中间膜72起到保护第一光学膜62的一部分63以使得不在第一光学膜62的一部分63产生伤痕、附着异物等的作用。

另外，在上述第一实施方式中，在保护膜形成步骤s125后进行第二光学膜图案化步骤s126，与此相对，在本实施方式中，在第二光学膜图案化步骤s126后进行保护膜形成步骤s125，这点不同。

因此，本实施方式的保护膜92与上述第一实施方式不同，不起到用于使第二光学膜82的一部分83残留，除去第二光学膜82的其余部分的掩模的作用。本实施方式的保护膜92起到保护第二光学膜82的一部分83以使得不在第二光学膜82的一部分83产生伤痕、附着异物等的作用。

以下，参照图25等，主要对不同之处进行说明。图25是表示第二实施方式的光学部件形成步骤的流程图。如图25所示，光学部件形成步骤s120按如下顺序包括第一光学膜形成步骤s121、第一光学膜图案化步骤s123、中间膜形成步骤s122、第二光学膜形成步骤s124、第二光学膜图案化步骤s126和保护膜形成步骤s125。

此外，也可以不进行图25所示的所有步骤。例如，第一光学膜图案化步骤s123、第二光学膜图案化步骤s126(详细情况在后文述说)在基片10上隔开间隔地形成多个光学部件50的情况下是有效的，但是在基片10上仅形成一个光学部件50的情况下可以省略。后述的一部分不溶解的处理也是相同的。

另外，也可以进行图25所示的步骤以外的步骤。例如，在第一光学膜形成步骤s121之前，为了改善第一光学膜对基片的紧贴性，可以进行对基片的要形成第一光学膜的面进行表面改性的步骤。作为表面改性膜，可以形成硅烷偶联剂等的有机膜、或氮化硅等的无机膜。

而且，可以按照如下顺序进行图25所示的第一光学膜形成步骤s121、第一光学膜图案化步骤s123和中间膜形成步骤s122以及图12所示的第二光学膜形成步骤s124、保护膜形成步骤s125和第二光学膜图案化步骤s126。

此外，可以按照如下顺序进行图12所示的第一光学膜形成步骤s121、中间膜形成步骤s122和第一光学膜图案化步骤s123以及图25所示的第二光学膜形成步骤s124、第二光学膜图案化步骤s126和保护膜形成步骤s125。

<第二实施方式的第一光学膜形成步骤>

在图25的第一光学膜形成步骤s121中，如图13～图14所示，将包含液晶分子和溶剂的第一光学膜用涂敷液61涂敷在基片10上并使其干燥，来形成第一光学膜62。第一光学膜62例如是1/4波长膜。

在本实施方式的第一光学膜形成步骤s121中，不进行图15所示的使第一光学膜62的一部分63不溶解的处理。该处理在第一光学膜图案化步骤s123中进行。

<第二实施方式的第一光学膜图案化步骤>

在图25的第一光学膜图案化步骤s123中，在第一光学膜形成步骤s121之后中间膜形成步骤s122之前，使第一光学膜62的一部分63残留，除去第一光学膜62的其余部分。

例如，在第一光学膜图案化步骤s123中，如图15所示仅使第一光学膜62的一部分63不溶于清洗液，之后，如图26所示用清洗液使第一光学膜62的其余部分溶解。图26是表示第二实施方式的没有不溶解的部分被除去的第一光学膜的侧视图。

关于清洗液，例如一边用旋转卡盘使基片10旋转，一边被供给到基片10。供给到基片10的清洗液因离心力而扩散到整个基片10，从基片10的外周缘被甩开。

第一光学膜62的一部分63不溶于清洗液，因此不会因清洗液而形状崩坏。另一方面，第一光学膜62的其余部分没有不溶于清洗液，因此能够被清洗液溶解而除去。

此外，清洗液储存在清洗槽中，通过将基片10浸渍在清洗槽的清洗液中，而使第一光学膜62的一部分63残留，并且将第一光学膜62的其余部分溶解而除去。也可以用搅拌片等来搅拌清洗槽的清洗液。

图26如所示，本实施方式中，在形成中间膜72(参照图28)前，使第一光学膜62的一部分63残留，除去第一光学膜62的其余部分，将第一光学膜62图案化。

在上述第一光学膜形成步骤s121中，一边施加剪切应力一边涂敷第一光学膜用涂敷液61，因此难以仅在像素区域涂敷第一光学膜用涂敷液61。所以，进行第一光学膜图案化步骤s123的作法是有效的。

以下，将在第一光学膜图案化步骤s123中残留的第一光学膜62的一部分63称为“第一光学膜63”。

<第二实施方式的中间膜形成步骤>

在图25的中间膜形成步骤s122中，如图27～图28所示，将不同于第一光学膜用涂敷液61的中间膜用涂敷液71涂敷在第一光学膜63上并使其干燥，来形成中间膜72。

图27是表示在第二实施方式的涂敷于第一光学膜上的中间膜用涂敷液的液膜的图。图28是表示第二实施方式的通过中间膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的中间膜的图。

如图27所示，在中间膜形成步骤s122中，从涂敷嘴70将中间膜用涂敷液71涂敷在形成有第一光学膜63的基片10上。涂敷嘴70可以为喷墨方式，具有多个向下表面排出中间膜用涂敷液71的液滴的排出嘴。

一边使涂敷嘴70与基片10相对地移动，一边从涂敷嘴70排出中间膜用涂敷液71的液滴，由此将中间膜用涂敷液71选择性地涂敷在仅第一光学膜63及其附近(例如，仅像素区及其附近)。

中间膜用涂敷液71被涂敷在第一光学膜63上。因此，形成第一光学膜63的液晶分子相对于中间膜用涂敷液71的溶剂具有不溶性即可。能够防止因涂敷中间膜用涂敷液71而第一光学膜63溶解。

中间膜用涂敷液71包含形成中间膜72的有机材料和使该有机材料溶解的溶剂。形成中间膜72的有机材料包含相对于涂敷在中间膜72上的第二光学膜用涂敷液81(参照图29)的溶剂呈不溶性的高分子等。

作为中间膜用涂敷液71，例如可以使用热固化型的透明涂料、化学反应型的透明涂料、干燥固化型的透明涂料等。具体而言，可以使用油性珐琅涂料、邻苯二甲酸树脂涂料等。

热固化型的透明涂料、化学反应型的透明涂料、干燥固化型的透明涂料等通过热固化、化学反应或者干燥固化而高分子化，因此能够形成致密的中间膜72。

如图27所示，可以以不仅覆盖第一光学膜63的主表面还覆盖第一光学膜63的端面的方式涂敷中间膜用涂敷液71。能够用中间膜72保护第一光学膜63，以使得不仅不在第一光学膜63的主表面还不在第一光学膜63的端面产生伤痕、附着异物。

涂敷中间膜用涂敷液71的区域不限于基片10上的像素区域及其附近。

此外，为了限定涂敷中间膜用涂敷液71的区域，也可以在基片10上粘贴薄膜等掩模。该掩模以在之后被剥离时不损伤第一光学膜63的方式在其与第一光学膜63之间形成间隙。

如图28所示，在中间膜形成步骤s122中，使涂敷于基片10上的中间膜用涂敷液71的液膜(参照图27)干燥，而形成中间膜72。从中间膜用涂敷液71的液膜除去溶剂，形成中间膜72。

中间膜72与第一光学膜63不同，具有各向同性的光学特性。优选中间膜72的可见光透射率在95％以上。此外，优选中间膜72的膜厚在10μm以下。另外，为了抑制光学部件的变形，优选中间膜72的残留应力越小越好。

中间膜72不仅覆盖第一光学膜63的主表面还覆盖第一光学膜63的端面。中间膜72起到保护第一光学膜63的作用，以使得不在第一光学膜63产生伤痕、附着异物等。优选中间膜72的铅笔硬度在2h以上。在光学部件的制造在中途暂时中断至再次开始为止耗费时间的情况下，产生伤痕、附着异物的风险较高，因此尤其有效。

中间膜72仅形成在基片10上的像素区域及其附近，在基片10上隔开间隔地形成多个。此外，在不需要取出设置于像素区域的周边的端子情况下，也可以在大致整个基片10形成中间膜72。在中间膜72上涂敷第二光学膜用涂敷液81时，第二光学膜用涂敷液81的液晶分子的取向控制性良好。

<第二实施方式的第二光学膜形成步骤>

在图25的第二光学膜形成步骤s124中，如图29～图30所示，将包含液晶分子和溶剂的第二光学膜用涂敷液81涂敷在中间膜72上并使其干燥，来形成第二光学膜82。第二光学膜82例如是直线偏振膜。

图29是表示在第二实施方式的涂敷于中间膜上的第二光学膜用涂敷液的液膜的侧视图。图30是表示第二实施方式的通过第二光学膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的第二光学膜的侧视图。

如图29所示，在第二光学膜形成步骤s124中，从涂敷嘴80将第二光学膜用涂敷液81涂敷在基片10上。涂敷嘴80例如是在下表面具有狭缝状的排出口的狭缝涂敷器。

第二光学膜用涂敷液81被涂敷在中间膜72上。因此，形成中间膜72的有机材料相对于第二光学膜用涂敷液81的溶剂具有不溶性即可。能够防止因涂敷第二光学膜用涂敷液81而中间膜72溶解。

此外，在本实施方式中，第二光学膜用涂敷液81的涂敷中使用狭缝涂敷器，不过也可以使用浸渍涂敷器等。只要能够对第二光学膜用涂敷液81施加剪切应力，能够控制该剪切应力的作用方向即可。

如图30所示，在第二光学膜形成步骤s124中，使涂敷于基片10上的第二光学膜用涂敷液81的液膜(参照图29)干燥，而形成第二光学膜82。从第二光学膜用涂敷液81的液膜除去溶剂，能够恰当地维持液晶分子的取向。第二光学膜82例如是直线偏振膜。

<第二实施方式的第二光学膜图案化步骤>

在图25的第二光学膜图案化步骤s126中，在第二光学膜形成步骤s124之后保护膜形成步骤s125之前，使第二光学膜82的一部分83残留，除去第二光学膜82的其余部分。

例如，在第二光学膜图案化步骤s126中，如图31所示，仅使第二光学膜82的一部分83不溶于清洗液，之后如图32所示，用清洗液溶解第二光学膜82的其余部分。

图31是表示第二实施方式的一部分不溶解的第二光学膜的侧视图。图32是表示第二实施方式的除去了没有不溶解的部分后的第二光学膜的侧视图。

如图31所示，在第二光学膜图案化步骤s126中，仅使第二光学膜82的一部分83不溶于清洗液。作为清洗液，可以使用与第二光学膜用涂敷液81的溶剂相同的清洗液，例如可以使用水。在该情况下，进行不溶于水的作法。

将使第二光学膜82的一部分83不溶解的固定液120从例如喷墨方式的涂敷嘴121排出。涂敷嘴121在下表面具有多个排出固定液120的液滴的排出嘴。

一边使涂敷嘴121与基片10相对地移动，一边从涂敷嘴121排出固定液120的液滴，由此将固定液120选择性地涂敷在第二光学膜82的一部分83。由此，使第二光学膜82的一部分83不溶解。

固定液120涂敷的区域例如可以是像素区域。

图32如所示，在第二光学膜图案化步骤s126中，仅使第二光学膜82的一部分83残留，除去第二光学膜82的其余部分。在第二光学膜82的其余部分的除去中，例如可以使用清洗液。

关于清洗液，例如一边用旋转卡盘使基片10旋转，一边被供给到基片10。供给到基片10的清洗液因离心力而扩散到整个基片10，从基片10的外周缘被甩开。

第二光学膜82的一部分83不溶于清洗液，因此不会因清洗液而形状崩坏。另一方面，第二光学膜82的其余部分没有不溶于清洗液，因此能够被清洗液溶解而除去。

此外，也可以清洗液储存在清洗槽中，通过将基片10浸渍在清洗槽的清洗液中，而使第二光学膜82的一部分83残留，并且将第二光学膜82的其余部分溶解而除去。也可以用搅拌片等来搅拌清洗槽的清洗液。

如图32所示，本实施方式中，在形成保护膜92(参照图34)前，使第二光学膜82的一部分83残留，除去第二光学膜82的其余部分，将第二光学膜82图案化。

在上述第二光学膜形成步骤s124中，一边施加剪切应力一边涂敷第二光学膜用涂敷液81，因此难以仅在像素区域涂敷第二光学膜用涂敷液81。所以，进行第二光学膜图案化步骤s126是有效的。

以下，将在第二光学膜图案化步骤s126中残留的第二光学膜82的一部分83称为“第二光学膜83”。

<第二实施方式的保护膜形成步骤>

在图25的保护膜形成步骤s125中，如图33～图34所示，将不同于第二光学膜用涂敷液81的保护膜用涂敷液91涂敷在第二光学膜83上并使其干燥，来形成保护膜92。

图33是表示在第二实施方式的涂敷于第二光学膜上的保护膜用涂敷液的液膜的侧视图。图34是表示第二实施方式的通过保护膜用涂敷液的液膜的干燥而形成的保护膜的侧视图。

如图33所示，在保护膜形成步骤s125中，从涂敷嘴90将保护膜用涂敷液91涂敷在形成有第二光学膜83的基片10上。涂敷嘴90可以为喷墨方式，具有多个向下表面排出保护膜用涂敷液91的液滴的排出嘴。

一边使涂敷嘴90与基片10相对地移动，一边从涂敷嘴90排出保护膜用涂敷液91的液滴，由此将保护膜用涂敷液91选择性地涂敷在仅第二光学膜83及其附近(例如，仅像素区域及其附近)。

保护膜用涂敷液91被涂敷在第二光学膜83上。因此，形成第二光学膜83的液晶分子相对于保护膜用涂敷液91的溶剂具有不溶性即可。能够防止因涂敷保护膜用涂敷液91而第二光学膜83溶解。

保护膜用涂敷液91包含形成保护膜92的有机材料和使该有机材料溶解的溶剂。

作为保护膜用涂敷液91，例如可以使用热固化型的透明涂料、化学反应型的透明涂料、干燥固化型的透明涂料等。具体而言，可以使用油性珐琅涂料、邻苯二甲酸树脂涂料等。

热固化型的透明涂料、化学反应型的透明涂料、干燥固化型的透明涂料等通过热固化、化学反应或者干燥固化而高分子化，因此能够形成致密的保护膜92。

如图33所示，可以为保护膜用涂敷液91以不仅覆盖第二光学膜83的主表面还覆盖第二光学膜83的端面的方式涂敷。能够用保护膜92保护第二光学膜83，以使得不仅不在第二光学膜83的主表面还不在第二光学膜83的端面产生伤痕、附着异物。

此外，保护膜用涂敷液91在图33中没有覆盖中间膜72的端面，不过也可以以覆盖中间膜72的端面的方式涂敷。

涂敷保护膜用涂敷液91的区域不限于基片10上的像素区域及其附近。

此外，为了限定涂敷保护膜用涂敷液91的区域，可以在基片10上粘贴薄膜等掩模。该掩模以在之后被剥离时不损伤第二光学膜83的方式在其与第二光学膜83之间形成间隙。

如图34所示，在保护膜形成步骤s125中，使涂敷于基片10上的保护膜用涂敷液91的液膜(参照图33)干燥，而形成保护膜92。从保护膜用涂敷液91的液膜除去溶剂，形成保护膜92。

保护膜92与第一光学膜83不同，具有各向同性的光学特性。优选保护膜92的可见光透射率在95％以上。此外，优选保护膜92的膜厚在10μm以下。另外，为了抑制光学部件的变形，优选保护膜92的残留应力越小越好。

保护膜92不仅覆盖第二光学膜83的主表面还覆盖第二光学膜83的端面。保护膜92起到保护第二光学膜83的作用，以使得不在第二光学膜83产生伤痕、附着异物等。优选保护膜92的铅笔硬度在2h以上。

保护膜92仅形成在基片10上的像素区域及其附近，在基片10上隔开间隔地形成多个。此外，在不需要取出设置于像素区域的周边的端子情况下，可以在大致整个基片10形成保护膜92。

此外，本实施方式的保护膜92是通过将保护膜用涂敷液91涂敷在第二光学膜83上使其干燥而形成的，不过也可以以膜的形态粘贴在第二光学膜83。

依照本实施方式，如图34所示，由第一光学膜63、中间膜72、第二光学膜83和保护膜92构成的光学部件50在基片10上隔开间隔地形成多个。因此，能够实现光学部件50的多面拼版，能够实现有机el显示器1的多面拼版。此外，光学部件50选择性地形成在像素区域及其附近，因此设置于像素区域的周围的端子能够恰当地发挥功能。

<第二实施方式的光学部件形成步骤的总结>

如以上所说明的那样，依照本实施方式，按如下顺序进行第一光学膜形成步骤s121、中间膜形成步骤s122和第二光学膜形成步骤s124。在第一光学膜63与第二光学膜83之间形成中间膜72。中间膜72能够保护第一光学膜63，以使得不在第一光学膜63产生伤痕、附着异物等。因此，能够提高光学部件50的品质，在光学部件50的制造在中途暂时中断至再次开始为止耗费时间的情况下，产生伤痕、附着异物的风险较高，因此尤其有效。

依照本实施方式，在第一光学膜形成步骤s121之后中间膜形成步骤s122之前，进行使第一光学膜62的一部分63残留，除去第一光学膜62的其余部分的第一光学膜图案化步骤s123。因此，能够用中间膜72不仅覆盖在第一光学膜图案化步骤s123后残留的第一光学膜63的主表面还覆盖第一光学膜63的端面。

依照本实施方式，在第一光学膜图案化步骤s123中，仅使第一光学膜62的一部分63不溶于溶解第一光学膜62的清洗液，之后，用清洗液使第一光学膜62的其余部分溶解。第一光学膜62的一部分63不溶于清洗液，因此不会因清洗液而形状崩坏。另一方面，第一光学膜62的其余部分没有不溶于清洗液，因此能够被清洗液溶解而除去。

依照本实施方式，在中间膜形成步骤s122中，以覆盖第二光学膜63的主表面和第一光学膜63的端面的方式形成中间膜72。中间膜72能够保护第一光学膜63，以使得不仅不在第一光学膜63的主表面还不在第一光学膜63的端面产生伤痕、附着异物等。因此，能够提高光学部件50的品质。在光学部件50的制造在中途暂时中断至再次开始为止耗费时间的情况下，产生伤痕、附着异物的风险较高，因此尤其有效。

依照本实施方式，进行形成保护第二光学膜83的保护膜92的保护膜形成步骤s125。保护膜92能够保护第二光学膜83，以使得在光学部件50的制造后，不在第二光学膜83产生伤痕、附着异物等。因此，能够提高光学部件50的品质。

依照本实施方式，在第二光学膜形成步骤s124之后保护膜形成步骤s125之前，进行使第二光学膜82的一部分83残留，除去第二光学膜82的其余部分的第二光学膜图案化步骤s126。因此，能够用保护膜92不仅覆盖在第二光学膜图案化步骤s126后残留的第二光学膜83的主表面还覆盖第二光学膜83的端面。

依照本实施方式，在第二光学膜图案化步骤s126中，仅使第二光学膜82的一部分83不溶于溶解第二光学膜82的清洗液，之后，用清洗液溶解第二光学膜82的其余部分。第二光学膜82的一部分83不溶于清洗液，因此不会因清洗液而形状崩坏。另一方面，第二光学膜82的其余部分没有使其不溶于清洗液，因此，能够被清洗液溶解而除去。

依照本实施方式，在保护膜形成步骤s125中，以覆盖第二光学膜83的主表面和第二光学膜83的端面的方式形成保护膜92。保护膜92能够保护第二光学膜83，以使得不仅不在第二光学膜83的主表面还不在第二光学膜83的端面产生伤痕、附着异物等。因此，能够能够提高光学部件50的品质。在光学部件50的制造在中途暂时中断至再次开始为止耗费时间的情况下，产生伤痕、附着异物的风险较高，因此尤其有效。

<变形、改良>

以上，对有机el显示器的制造方法的实施方式进行了说明，但是本发明不限于上述实施方式等，在权利要求的范围所记载的本发明的主旨的范围内，能够进行各种变形、改良。

例如，光学部件50在上述实施方式中包含第一光学膜63、中间膜72、第二光学膜83和保护膜92，但是本发明不限于此。光学部件50包含液晶分子已取向的光学膜即可，光学膜的数量没有限定。

本申请要求基于2017年5月1日向日本国专利局提出的日本特愿2017-091471号的优先权，将日本特愿2017-091471号的全部内容援引于本申请。

附图标记说明

10基片

13有机发光二极管

30密封层

40触摸传感器

41第一金属膜

43绝缘膜

45第二金属膜

47触摸传感器保护膜

50光学部件

61第一光学膜用涂敷液

62第一光学膜

63第一光学膜

71中间膜用涂敷液

72中间膜

81第二光学膜用涂敷液

82第二光学膜

83第二光学膜

91保护膜用涂敷液

92保护膜。