一种晾画架的制作方法

文档序号:14676150发布日期:2018-06-12 21:31阅读:428来源:国知局
一种晾画架的制作方法

本实用新型涉及晾画架技术领域,尤其涉及一种晾画架。



背景技术:

目前,越来越多的人在学习绘画,当画家把画作创作完成后,需要等到颜料完全晾干之后才能将画收藏起来,对尤其对于幼儿园小朋友在完成画作以后,画作有秩序整洁的进行晾干就尤为必要,所以现在的市场上晾画架需求量也不断在增加。

然而现有的一种晾画架在使用上仍存在一定的不足之处,使用时,晾画架不能适应不同纸张大小的画作,晾画架在完成晾画工作后不能将画作进行暂时的存储。



技术实现要素:

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种晾画架。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:一种晾画架,包括第一伸缩杆和支撑柱,所述支撑柱的顶部等角度设置有多个圆形画作放置孔,所述支撑柱的外侧上端位置处等角度设置有多个第一伸缩杆,所述支撑柱的外侧位于第一伸缩杆的上方位置处设置有第二标志牌,所述支撑柱的外侧下端位置处等角度设置有多个第二伸缩杆,所述支撑柱的外侧位于第二伸缩杆的上方位置处设置有第一标志牌,所述第一伸缩杆的顶部一端通过铰链与卡块连接,所述卡块的底部通过弹簧与第一伸缩杆连接,所述支撑柱的底部转动连接有转动底盘。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述第一伸缩杆设计为三段式伸缩杆结构,且第二伸缩杆设计为三段式伸缩杆结构。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述多个第一伸缩杆的水平中线与多个第二伸缩杆的水平中线相互平行。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述第一标志牌的竖直中线与第二伸缩杆的竖直中线位于同一直线上。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述第二标志牌的竖直中线与第一伸缩杆的竖直中线位于同一直线上。

本实用新型中,首先,支撑柱的两个水平高度上等角度设置有多个第一伸缩杆、第二伸缩杆,第一伸缩杆、第二伸缩杆均为三段式伸缩杆,且第一伸缩杆与第二伸缩杆在竖直方向上交叉设计,可将需要晾干的画作放置于第一伸缩杆、第二伸缩杆上,通过调节第一伸缩杆第二伸缩杆的长度来适应不同纸张大小的画作,方便了画作的晾晒,且能适应不同纸张大小的画作,其次,每个第一伸缩杆和第二伸缩杆的上方均设置有第二标志牌和第一标志牌,可在第一标志牌和第二标志牌上做标记,以区分不同画家的作品,方便区分,不会给使用者带来不必要的麻烦,最后,支撑柱的顶部等角度开设有多个圆形画作放置孔,可将晾干的画作进行暂时的储存,可为还未晾干的画作腾出空间,方便使用。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种晾画架的结构示意图;

图2为本实用新型支撑柱的内部结构示意图;

图例说明:

1-卡块、2-弹簧、3-铰链、4-第一伸缩杆、5-转动底盘、6-第一标志牌、7-第二伸缩杆、8-第二标志牌、9-支撑柱、10-圆形画作放置孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1-2,一种晾画架,包括第一伸缩杆4和支撑柱9,支撑柱9的顶部等角度设置有多个圆形画作放置孔,支撑柱9的外侧上端位置处等角度设置有多个第一伸缩杆4,支撑柱9的外侧位于第一伸缩杆4的上方位置处设置有第二标志牌8,支撑柱9的外侧下端位置处等角度设置有多个第二伸缩杆7,支撑柱9的外侧位于第二伸缩杆7的上方位置处设置有第一标志牌6,第一伸缩杆4的顶部一端通过铰链3与卡块1连接,卡块1的底部通过弹簧2与第一伸缩杆4连接,支撑柱9的底部转动连接有转动底盘5。

第一伸缩杆4设计为三段式伸缩杆结构,且第二伸缩杆7设计为三段式伸缩杆结构,多个第一伸缩杆4的水平中线与多个第二伸缩杆7的水平中线相互平行,第一标志牌6的竖直中线与第二伸缩杆7的竖直中线位于同一直线上,第二标志牌8的竖直中线与第一伸缩杆4的竖直中线位于同一直线上。

支撑柱9的底部转动连接有转动底盘5,可通过转动支撑柱9,使得不同角度的第一伸缩杆4和第二伸缩杆7能较容易的展现在使用者的面前,从而进行画作的晾晒,使用方便,节省时间。

工作原理:使用时,将调节第一伸缩杆4和第二伸缩杆7的长度以适应不同纸张大小的画作,将画作放置于第一伸缩杆4和第二伸缩杆7上,在铰链3的作用下,向上拉动卡块1,将画作拉动至卡块1的下方,松开卡块1,在弹簧2的作用下,卡块1将画作固定于第一伸缩杆4和第二伸缩杆7上,将每个第一标志牌6和第二标志牌8上作好标记,以明确画作的作者身份,防止混淆,即可进行画作的晾晒,晾晒完成后,可将画作卷曲成圆柱状放置于圆形画作放置孔10的内部,进行暂时的存储。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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