不可见光遮蔽结构的制作方法

本实用新型是有关于一种光遮蔽结构，且尤其是有关一种不可见光遮蔽结构。

背景技术：

近年来能源短缺，科学家除了积极开发新能源外，也开始寻求节省能源的方法，是以低耗能的设备或建筑构件逐渐被开发出来，以期可以达到省电的效果，而节能窗便是其中一种。

由于现今工商社会中办公大楼林立，多数大楼为了采光而使用大量的玻璃窗结构，但也因为玻璃的光穿透度高，导致热辐射进入室内，增加了冷气机等降温器的使用机会而导致排碳量及能源使用率的提升，反而与环保节能的观念背道而驰。因此，科学家开发出可以遮蔽热辐射进入的节能窗，其在玻璃上设有特殊涂层，不仅可以阻挡红外光线的进入，同时可以维持玻璃的透明度，兼具隔热与采光的功能，然其阻挡红外线的能力仍有限。

有鉴于此，如何有效改善节能窗等结构配置使其更有效的遮蔽不可见光，遂成相关业者努力的目标。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种不可见光遮蔽结构，其具有金属层及氧化钨铯不可见光遮蔽单元，而能提升不可见光遮蔽能力。

依据本实用新型的一实施例提供一种不可见光遮蔽结构，其包含第一透明基板、金属层、透明保护层以及氧化钨铯不可见光遮蔽单元。金属层设置在第一透明基板的一侧；透明保护层设置在金属层远离第一透明基板的一侧；以及氧化钨铯不可见光遮蔽单元设置在透明保护层远离第一透明基板的一侧。

依据前述的不可见光遮蔽结构，其中氧化钨铯不可见光遮蔽单元包含氧化钨铯红外光遮蔽层，氧化钨铯红外光遮蔽层包含氧化钨铯膜。

依据本实用新型的另一实施例提供一种不可见光遮蔽结构，其包含第一透明基板、金属层、透明保护层、氧化钨铯不可见光遮蔽单元以及第二透明基板，金属层设置在第一透明基板的一侧，透明保护层设置在金属层远离第一透明基板的一侧，氧化钨铯不可见光遮蔽单元设置在透明保护层远离第一透明基板的一侧且包含紫外光红外光遮蔽层，紫外光红外光遮蔽层包含氧化钨铯树脂膜；以及第二透明基板设置在紫外光红外光遮蔽层远离透明保护层的一侧。

依据本实用新型的又一实施例提供一种不可见光遮蔽结构，其包含第一透明基板、金属层、透明保护层以及氧化钨铯不可见光遮蔽单元，金属层设置在第一透明基板的一侧，透明保护层设置在金属层远离第一透明基板的一侧。氧化钨铯不可见光遮蔽单元包含氧化钨铯红外光遮蔽层及紫外光遮蔽层，氧化钨铯红外光遮蔽层设置在透明保护层远离第一透明基板的一侧；紫外光遮蔽层设置在透明保护层与氧化钨铯红外光遮蔽层之间、第一透明基板远离金属层的一侧、或氧化钨铯红外光遮蔽层远离透明保护层的一侧。

依据本实用新型的再一实施例提供一种不可见光遮蔽结构，其包含第一透明基板、金属层、透明保护层、氧化钨铯不可见光遮蔽单元以及第二透明基板，金属层设置在第一透明基板的一侧，透明保护层设置在金属层远离第一透明基板的一侧。氧化钨铯不可见光遮蔽单元包含氧化钨铯红外光遮蔽层及紫外光遮蔽层，氧化钨铯红外光遮蔽层设置在透明保护层远离第一透明基板的一侧；紫外光遮蔽层设置在透明保护层与红外光遮蔽层之间、金属层与第一透明基板之间、或氧化钨铯红外光遮蔽层远离透明保护层的一侧；第二透明基板设置在第一透明基板与金属层之间、透明保护层与红外光遮蔽层之间、或氧化钨铯红外光遮蔽层远离透明保护层的一侧。

依据前述的不可见光遮蔽结构，其中紫外光遮蔽层设置在金属层与第一透明基板之间，第二透明基板设置在紫外光遮蔽层与金属层之间。或紫外光遮蔽层设置在透明保护层与氧化钨铯红外光遮蔽层之间，第二透明基板设置在紫外光遮蔽层与氧化钨铯红外光遮蔽层之间。或紫外光遮蔽层设置在氧化钨铯红外光遮蔽层远离透明保护层的一侧，第二透明基板设置在紫外光遮蔽层远离透明保护层的一侧。

依据前述的不可见光遮蔽结构，紫外光遮蔽层包含树脂膜。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：本实用新型的不可见光遮蔽结构，具有金属层及氧化钨铯不可见光遮蔽单元，而能具有良好的可见光穿透率。

附图说明

图1绘示依照本实用新型第1实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图2绘示依照本实用新型第2实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图3绘示依照本实用新型第3实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图4绘示依照本实用新型第4实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图5绘示依照本实用新型第5实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图6绘示依照本实用新型第6实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图7绘示依照本实用新型第7实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图8绘示依照本实用新型第8实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图9绘示依照本实用新型第9实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图10绘示依照本实用新型第10实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图11绘示依照本实用新型第11实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图12绘示依照本实用新型第12实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图13绘示依照本实用新型第13实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；

图14绘示依照本实用新型第14实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图；以及

图15绘示依照本实用新型第15实施例的一种不可见光遮蔽结构的侧视示意图。

具体实施方式

以下将参照附图说明本实用新型的实施方式。为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，阅读者应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本实用新型。也就是说，在本实用新型部分实施例中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化附图起见，一些现有惯用的结构与元件在附图中将以简单示意的方式绘示；并且重复的元件将可能使用相同的编号表示。

本实用新型的不可见光遮蔽结构可包含第一透明基板、金属层、透明保护层以及氧化钨铯不可见光遮蔽单元，其中氧化钨铯不可见光遮蔽单元可以是单独包含氧化钨铯红外光遮蔽层，或是分别包含氧化钨铯红外光遮蔽层及紫外光遮蔽层，或是单独包含紫外光红外光遮蔽层而能同时遮蔽紫外光及红外光，且氧化钨铯不可见光遮蔽单元具有多个氧化钨铯。优选的，金属层的成分可为银、铝、铬、镍、铟、钛或锡。

借此，不可见光遮蔽结构可具有独立的金属层及氧化钨铯不可见光遮蔽单元，可以使不可见光遮蔽结构具有优选的可见光穿透率，且同时保持良好的不可见光遮蔽率。

在一实施方式中，不可见光遮蔽结构包含第一透明基板、金属层、透明保护层以及氧化钨铯不可见光遮蔽单元，金属层设置在第一透明基板的一侧，透明保护层设置在金属层远离第一透明基板的一侧，氧化钨铯不可见光遮蔽单元设置在透明保护层远离第一透明基板的一侧，且氧化钨铯不可见光遮蔽单元具有多个氧化钨铯。

其中第一透明基板可为玻璃材料制成；氧化钨铯红外光遮蔽层可包含氧化钨铯膜，氧化钨铯膜包含氧化钨铯，其可以是用化学气相沉积或物理气相沉积方式形成，厚度可为10纳米(nm)至1000纳米(nm)。或氧化钨铯红外光遮蔽层包含氧化钨铯玻璃胶，氧化钨铯玻璃胶包含高分子玻璃胶体及多个纳米粒子，高分子玻璃胶体具有含硅烷树脂基、含亚克力树脂、含聚氨脂树脂以及含环氧树脂，纳米粒子均匀分散于高分子玻璃胶体，且纳米粒子具有氧化钨铯，其可利用涂布、列印或网印方式制作，厚度为1微米(μm)至 50微米(μm)。优选的，含硅烷树脂基的重量百分比为0.5％～90％，含亚克力树脂的重量百分比为3％～90％，含聚氨脂树脂的重量百分比为3％～90％，含环氧树脂的重量百分比为3％～90％，纳米粒子的重量百分比为0.5％～90％。

在另一实施方式中，不可见光遮蔽结构包含第一透明基板、金属层、透明保护层以及氧化钨铯不可见光遮蔽单元，金属层设置在第一透明基板的一侧，透明保护层设置在金属层远离第一透明基板的一侧。氧化钨铯不可见光遮蔽单元包含氧化钨铯红外光遮蔽层及紫外光遮蔽层，氧化钨铯红外光遮蔽层设置在透明保护层远离第一透明基板的一侧；紫外光遮蔽层设置在透明保护层与氧化钨铯红外光遮蔽层之间、第一透明基板远离金属层的一侧、或氧化钨铯红外光遮蔽层远离透明保护层的一侧。

紫外光遮蔽层可包含氧化金属膜，氧化金属膜具有多个氧化铈或多个氧化锌，其可以是用化学气相沉积或物理气相沉积方式形成，厚度可为10纳米 (nm)至1000纳米(nm)。或紫外光遮蔽层包含氧化铈玻璃胶，氧化铈玻璃胶包含高分子玻璃胶体及多个纳米粒子，高分子玻璃胶体包含硅烷树脂基、含亚克力树脂、含聚氨脂树脂以及含环氧树脂，纳米粒子均匀分散于高分子玻璃胶体，且纳米粒子为氧化铈，其可利用涂布、列印或网印方式制作，厚度为1微米(μm)至50微米(μm)。上述的氧化铈可换为氧化锌。优选的，含硅烷树脂基的重量百分比为0.5％～90％，含亚克力树脂的重量百分比为 3％～90％，含聚氨脂树脂的重量百分比为3％～90％，含环氧树脂的重量百分比为3％～90％，纳米粒子的重量百分比为0.5％～90％。

在又一实施方式中，不可见光遮蔽结构包含第一透明基板、金属层、透明保护层、氧化钨铯不可见光遮蔽单元以及第二透明基板，金属层设置在第一透明基板的一侧，透明保护层设置在金属层远离第一透明基板的一侧。氧化钨铯不可见光遮蔽单元包含氧化钨铯红外光遮蔽层及紫外光遮蔽层，氧化钨铯红外光遮蔽层设置在透明保护层远离第一透明基板的一侧，且氧化钨铯红外光遮蔽层具有多个氧化钨铯；紫外光遮蔽层设置在透明保护层与氧化钨铯红外光遮蔽层之间、金属层与第一透明基板之间、或氧化钨铯红外光遮蔽层远离透明保护层的一侧；第二透明基板设置在第一透明基板与金属层之间、透明保护层与氧化钨铯红外光遮蔽层之间、或氧化钨铯红外光遮蔽层远离透明保护层的一侧。

举例而言，紫外光遮蔽层可设置在金属层与第一透明基板之间，第二透明基板设置在紫外光遮蔽层与金属层之间。或紫外光遮蔽层设置在透明保护层与氧化钨铯红外光遮蔽层之间，第二透明基板设置在紫外光遮蔽层与氧化钨铯红外光遮蔽层之间。或紫外光遮蔽层设置在氧化钨铯红外光遮蔽层远离透明保护层的一侧，第二透明基板设置在紫外光遮蔽层远离透明保护层的一侧。

其中第二透明基板可为玻璃材料制成；紫外光遮蔽层可包含树脂膜，树脂膜包含聚乙烯醇缩丁醛树脂及紫外线屏蔽剂，紫外线屏蔽剂分散于聚乙烯醇缩丁醛树脂(PVB)中。也就是说，通过混炼的方式，让紫外线屏蔽剂、聚乙烯醇缩丁醛树脂及可塑剂混合后，押出形成具有紫外光遮蔽功能的树脂膜。其中紫外线屏蔽剂可为台湾光永公司生产的Eversorb 732FD，优选的，紫外线屏蔽剂的重量百分比为0.1％～10％，聚乙烯醇缩丁醛树脂的重量百分比为 64％～85％，还可以包含可塑剂，其重量百分比为14％～35％。

借此，当紫外光遮蔽层设置在金属层与第一透明基板之间时，使用具有紫外光遮蔽功能的树脂膜可以提供第一透明基板及第二透明基板之间的贴合作用，而当紫外光遮蔽层设置在氧化钨铯红外光遮蔽层远离透明保护层的一侧，第二透明基板设置在紫外光遮蔽层远离透明保护层的一侧时，紫外光遮蔽层可提供保护作用，使其他层不受外界环境影响。

在又一实施方式中，不可见光遮蔽结构包含第一透明基板、金属层、透明保护层、氧化钨铯不可见光遮蔽单元以及第二透明基板，金属层设置在第一透明基板的一侧，透明保护层设置在金属层远离第一透明基板的一侧，氧化钨铯不可见光遮蔽单元设置在透明保护层远离第一透明基板的一侧且包含紫外光红外光遮蔽层，紫外光红外光遮蔽层包含氧化钨铯树脂膜，氧化钨铯树脂膜包含聚乙烯醇缩丁醛树脂、紫外线屏蔽剂及多个纳米粒子，紫外线屏蔽剂分散于聚乙烯醇缩丁醛树脂中，纳米粒子分散于聚乙烯醇缩丁醛树脂，且纳米粒子具有氧化钨铯；第二透明基板设置在紫外光红外光遮蔽层远离透明保护层的一侧。

紫外光红外光遮蔽层可包含氧化钨铯树脂膜，氧化钨铯树脂膜包含聚乙烯醇缩丁醛树脂、紫外线屏蔽剂及多个纳米粒子，紫外线屏蔽剂分散于聚乙烯醇缩丁醛树脂中，纳米粒子分散于聚乙烯醇缩丁醛树脂，且纳米粒子具有氧化钨铯。也就是说，通过混炼的方式，让紫外线屏蔽剂、聚乙烯醇缩丁醛树脂，纳米粒子及可塑剂混合后，押出形成具有紫外光红外光遮蔽功能的氧化钨铯树脂膜。优选的，紫外线屏蔽剂的重量百分比为0.1％～10％，聚乙烯醇缩丁醛树脂的重量百分比为5％～90％，纳米粒子的重量百分比为1％～90％。

前述不可见光遮蔽结构还可包含自洁层设置在第一透明基板远离金属层的一侧，且自洁层具有多个氟。在一实施方式中，自洁层可包含氟膜，氟膜包含氟，其可以是用化学气相沉积或物理气相沉积方式形成，厚度可为10纳米(nm)至1000纳米(nm)。或在一实施方式中，自洁层包含氟玻璃胶，氟玻璃胶包含高分子玻璃胶体及多个纳米含氟树脂，高分子玻璃胶体包含硅烷树脂基、含亚克力树脂、含聚氨脂树脂以及含环氧树脂，纳米含氟树脂均匀分散于高分子玻璃胶体，且纳米含氟树脂具有氟，其可利用涂布、列印或网印方式制作，厚度为1微米(μm)至50微米(μm)。优选的，高分子玻璃胶体的重量百分比为10％～99.9％，纳米含氟树脂的重量百分比为0.1％～90％。

根据上述说明，以下提出具体实施例并配合附图予以详细说明。

实施例

请参阅图1，其中图1绘示依照本实用新型第1实施例的一种不可见光遮蔽结构100的侧视示意图。第1实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元140 包含氧化钨铯红外光遮蔽层141，不可见光遮蔽结构100由上而下依序为第一透明基板110、金属层120、透明保护层130及氧化钨铯红外光遮蔽层141，其中金属层120的成分为银(在其他实施例中，金属层120成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层130是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50纳米(nm)(在其他实施例中，透明保护层130可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，以及氧化钨铯红外光遮蔽层141是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200纳米 (nm)(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层141也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)。

请参阅图2，其中图2绘示依照本实用新型第2实施例的一种不可见光遮蔽结构200的侧视示意图。第2实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元240 包含氧化钨铯红外光遮蔽层241，不可见光遮蔽结构200由上而下依序为自洁层260、第一透明基板210、金属层220、透明保护层230及氧化钨铯红外光遮蔽层241，其中自洁层260是以物理气相沉积方法制成的连续含氟薄膜，膜厚500纳米(nm)(在其他实施例中，自洁层260也可以是以氟玻璃胶形成的不连续含氟薄膜)，金属层220的成分为银(在其他实施例中，金属层220成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层130是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50纳米(nm)(在其他实施例中，透明保护层130可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，以及氧化钨铯红外光遮蔽层241是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200纳米(nm)(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层241也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)。

请参阅图3，其中图3绘示依照本实用新型第3实施例的一种不可见光遮蔽结构300的侧视示意图。第3实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元340 包含紫外光红外光遮蔽层343，不可见光遮蔽结构300由上而下依序为第一透明基板310、金属层320、透明保护层330、紫外光红外光遮蔽层343及第二透明基板350，其中金属层320的成分为银(在其他实施例中，金属层320成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层330是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50纳米(nm)(在其他实施例中，透明保护层330可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，以及紫外光红外光遮蔽层343为具有紫外光红外光遮蔽功能的氧化钨铯树脂膜。

请参阅图4，其中图4绘示依照本实用新型第4实施例的一种不可见光遮蔽结构400的侧视示意图。第4实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元440 包含紫外光红外光遮蔽层443，不可见光遮蔽结构400由上而下依序为自洁层 460、第一透明基板410、金属层420、透明保护层430、紫外光红外光遮蔽层443及第二透明基板450，其中自洁层460是以物理气相沉积方法制成的连续含氟薄膜，膜厚500纳米(nm)(在其他实施例中，自洁层460也可以是以氟玻璃胶形成的不连续含氟薄膜)，金属层420的成分为银(在其他实施例中，金属层420成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层430是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50纳米(nm)(在其他实施例中，透明保护层430可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，以及紫外光红外光遮蔽层443为具有紫外光红外光遮蔽功能的氧化钨铯树脂膜。

请参阅图5，其中图5绘示依照本实用新型第5实施例的一种不可见光遮蔽结构500的侧视示意图。第5实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元540 包含氧化钨铯红外光遮蔽层541及紫外光遮蔽层542，不可见光遮蔽结构500 由上而下依序为第一透明基板510、金属层520、透明保护层530、紫外光遮蔽层542及氧化钨铯红外光遮蔽层541，其中金属层520的成分为银(在其他实施例中，金属层520成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层530 是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50纳米(nm)(在其他实施例中，透明保护层530可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，紫外光遮蔽层542是以物理气相沉积制作的氧化金属膜，其为连续氧化锌薄膜，膜厚500纳米(nm)(在其他实施例中，紫外光遮蔽层542也可以是以氧化铈玻璃胶形成的不连续氧化铈薄膜)，以及氧化钨铯红外光遮蔽层 541是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200 纳米(nm)(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层541也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)。

请参阅图6，其中图6绘示依照本实用新型第6实施例的一种不可见光遮蔽结构600的侧视示意图。第6实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元640 包含氧化钨铯红外光遮蔽层641及紫外光遮蔽层642，不可见光遮蔽结构600 由上而下依序为自洁层660、第一透明基板610、金属层620、透明保护层630、紫外光遮蔽层642及氧化钨铯红外光遮蔽层641，其中自洁层660是以物理气相沉积方法制成的连续含氟薄膜，膜厚500纳米(nm)(在其他实施例中，自洁层660也可以是以氟玻璃胶形成的不连续含氟薄膜)，金属层620的成分为银(在其他实施例中，金属层620成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层630是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50纳米(nm)(在其他实施例中，透明保护层630可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，紫外光遮蔽层642是以物理气相沉积制作的氧化金属膜，其为连续氧化锌薄膜，膜厚500纳米(nm)(在其他实施例中，紫外光遮蔽层 642也可以是以氧化铈玻璃胶形成的不连续氧化铈薄膜)，以及氧化钨铯红外光遮蔽层641是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200纳米(nm)(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层641也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)。

请参阅图7，其中图7绘示依照本实用新型第7实施例的一种不可见光遮蔽结构700的侧视示意图。第7实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元740 包含氧化钨铯红外光遮蔽层741及紫外光遮蔽层742，不可见光遮蔽结构700 由上而下依序为自洁层760、紫外光遮蔽层742、第一透明基板710、金属层 720、透明保护层730及氧化钨铯红外光遮蔽层741，其中自洁层760是以物理气相沉积方法制成的连续含氟薄膜，膜厚500nm(在其他实施例中，自洁层 760也可以是以氟玻璃胶形成的不连续含氟薄膜)，紫外光遮蔽层742是以物理气相沉积制作的氧化金属膜，其为连续氧化锌薄膜，膜厚500nm(在其他实施例中，紫外光遮蔽层742也可以是以氧化铈玻璃胶形成的不连续氧化铈薄膜)，金属层720的成分为银(在其他实施例中，金属层720成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层730是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50nm(在其他实施例中，透明保护层730可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，以及氧化钨铯红外光遮蔽层741是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200nm(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层741也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)。

请参阅图8，其中图8绘示依照本实用新型第8实施例的一种不可见光遮蔽结构800的侧视示意图。第8实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元840 包含氧化钨铯红外光遮蔽层841及紫外光遮蔽层842，不可见光遮蔽结构800 由上而下依序为第一透明基板810、金属层820、透明保护层830、氧化钨铯红外光遮蔽层841及紫外光遮蔽层842，其中金属层820的成分为银(在其他实施例中，金属层820成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层830 是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50nm(在其他实施例中，透明保护层830可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，氧化钨铯红外光遮蔽层841是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200nm(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层841也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)，以及紫外光遮蔽层842是以物理气相沉积制作的氧化金属膜，其为连续氧化锌薄膜，膜厚500nm(在其他实施例中，紫外光遮蔽层842也可以是以氧化铈玻璃胶形成的不连续氧化铈薄膜)。

请参阅图9，其中图9绘示依照本实用新型第9实施例的一种不可见光遮蔽结构900的侧视示意图。第9实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元940 包含氧化钨铯红外光遮蔽层941及紫外光遮蔽层942，不可见光遮蔽结构900 由上而下依序为自洁层960、第一透明基板910、金属层920、透明保护层930、氧化钨铯红外光遮蔽层941及紫外光遮蔽层942，其中自洁层960是以物理气相沉积方法制成的连续含氟薄膜，膜厚500nm(在其他实施例中，自洁层960 也可以是以氟玻璃胶形成的不连续含氟薄膜)，金属层920的成分为银(在其他实施例中，金属层920成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层930 是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50nm(在其他实施例中，透明保护层930可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，氧化钨铯红外光遮蔽层941是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200nm(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层941也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)，以及紫外光遮蔽层942是以物理气相沉积制作的氧化金属膜，其为连续氧化锌薄膜，膜厚500nm(在其他实施例中，紫外光遮蔽层642也可以是以氧化铈玻璃胶形成的不连续氧化铈薄膜)。

请参阅图10，其中图10绘示依照本实用新型第10实施例的一种不可见光遮蔽结构1000的侧视示意图。第10实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元1040包含氧化钨铯红外光遮蔽层1041及紫外光遮蔽层1042，不可见光遮蔽结构1000由上而下依序为第一透明基板1010、紫外光遮蔽层1042、第二透明基板1050、金属层1020、透明保护层1030及氧化钨铯红外光遮蔽层1041，其中紫外光遮蔽层1042为具有紫外光遮蔽功能的树脂膜，金属层1020的成分为银(在其他实施例中，金属层1020成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层1030是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50nm(在其他实施例中，透明保护层1030可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，以及氧化钨铯红外光遮蔽层1041是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200nm(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层1041也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)。

请参阅图11，其中图11绘示依照本实用新型第11实施例的一种不可见光遮蔽结构1100的侧视示意图。第11实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元1140包含氧化钨铯红外光遮蔽层1141及紫外光遮蔽层1142，不可见光遮蔽结构1100由上而下依序为自洁层1160、第一透明基板1110、紫外光遮蔽层 1142、第二透明基板1150、金属层1120、透明保护层1130及氧化钨铯红外光遮蔽层1141，其中自洁层1160是以物理气相沉积方法制成的连续含氟薄膜，膜厚500nm(在其他实施例中，自洁层1160也可以是以氟玻璃胶形成的不连续含氟薄膜)，紫外光遮蔽层1142为具有紫外光遮蔽功能的树脂膜，金属层1120 的成分为银(在其他实施例中，金属层1120成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层1130是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50nm(在其他实施例中，透明保护层1130可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，以及氧化钨铯红外光遮蔽层1141是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200nm(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层1141也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)。

请参阅图12，其中图12绘示依照本实用新型第12实施例的一种不可见光遮蔽结构1200的侧视示意图。第12实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元1240包含氧化钨铯红外光遮蔽层1241及紫外光遮蔽层1242，不可见光遮蔽结构1200由上而下依序为第一透明基板1210、金属层1220、透明保护层 1230、紫外光遮蔽层1242、第二透明基板1250以及氧化钨铯红外光遮蔽层 1241，其中紫外光遮蔽层1242为具有紫外光遮蔽功能的树脂膜，金属层1220 的成分为银(在其他实施例中，金属层1220成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层1230是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50nm(在其他实施例中，透明保护层1230可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，以及氧化钨铯红外光遮蔽层1241是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200nm(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层1241也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)。

请参阅图13，其中图13绘示依照本实用新型第13实施例的一种不可见光遮蔽结构1300的侧视示意图。第13实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元1340包含氧化钨铯红外光遮蔽层1341及紫外光遮蔽层1342，不可见光遮蔽结构1300由上而下依序为自洁层1360、第一透明基板1310、金属层1320、透明保护层1330、紫外光遮蔽层1342、第二透明基板1350以及氧化钨铯红外光遮蔽层1341，其中自洁层1360是以物理气相沉积方法制成的连续含氟薄膜，膜厚500nm(在其他实施例中，自洁层1360也可以是以氟玻璃胶形成的不连续含氟薄膜)，紫外光遮蔽层1342为具有紫外光遮蔽功能的树脂膜，金属层 1320的成分为银(在其他实施例中，金属层1320成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层1330是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚 50nm(在其他实施例中，透明保护层1330可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，以及氧化钨铯红外光遮蔽层1341是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200nm(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层1341也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)。

请参阅图14，其中图14绘示依照本实用新型第14实施例的一种不可见光遮蔽结构1400的侧视示意图。第14实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元1440包含氧化钨铯红外光遮蔽层1441及紫外光遮蔽层1442，不可见光遮蔽结构1400由上而下依序为第一透明基板1410、金属层1420、透明保护层 1430、氧化钨铯红外光遮蔽层1441、紫外光遮蔽层1442及第二透明基板1450，其中紫外光遮蔽层1442为具有紫外光遮蔽功能的树脂膜，金属层1420的成分为银(在其他实施例中，金属层1420成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层1430是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50nm(在其他实施例中，透明保护层1430可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，以及氧化钨铯红外光遮蔽层1441是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200nm(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层1441也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)。

请参阅图15，其中图15绘示依照本实用新型第15实施例的一种不可见光遮蔽结构1500的侧视示意图。第15实施例中，氧化钨铯不可见光遮蔽单元1540包含氧化钨铯红外光遮蔽层1541及紫外光遮蔽层1542，不可见光遮蔽结构1500由上而下依序为自洁层1560、第一透明基板1510、金属层1520、透明保护层1530、氧化钨铯红外光遮蔽层1541、紫外光遮蔽层1542及第二透明基板1550，其中自洁层1560是以物理气相沉积方法制成的连续含氟薄膜，膜厚500nm(在其他实施例中，自洁层1460也可以是以氟玻璃胶形成的不连续含氟薄膜)，紫外光遮蔽层1542为具有紫外光遮蔽功能的树脂膜，金属层1520 的成分为银(在其他实施例中，金属层1520成分可为铝、铬、镍、铟、钛、锡)，透明保护层1530是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50nm(在其他实施例中，透明保护层1530可以是以物理气相沉积方法制作的二氧化钛或三氧化二铝膜)，以及氧化钨铯红外光遮蔽层1541是以物理气相沉积方法制作的氧化钨铯膜(连续氧化钨铯薄膜)，膜厚200nm(在其他实施例中，氧化钨铯红外光遮蔽层1541也可以是以氧化钨铯玻璃胶形成的不连续氧化钨铯薄膜)。

比较例

第1比较例由上而下包含第一透明基板、红外光遮蔽层及透明保护层，其中红外光遮蔽层为成分为银，透明保护层是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50nm。

第2比较例由上而下包含第一透明基板、紫外光遮蔽层、第二透明基板、红外光遮蔽及透明保护层，其中紫外光遮蔽层为具有紫外光遮蔽功能的树脂膜，红外光遮蔽层为银，透明保护层是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50nm。

第3比较例由上而下包含第一透明基板、红外光遮蔽、透明保护层、紫外光遮蔽层及第二透明基板，其中紫外光遮蔽层为具有紫外光遮蔽功能的树脂膜，红外光遮蔽层为银，透明保护层为是以物理气相沉积方法制作的二氧化硅膜，膜厚50nm。

下表一为第1比较例至第3比较例，以及第1实施例至第15实施例的紫外光阻隔率、红外光阻隔率及水滴角的量测结果，其中紫外光阻隔率及红外光阻隔率测量机台为美国EDTM型号WP4500，紫外线测试波长为365nm，红外线测试波长为950nm，水滴角测量机台为GBX，PX610，France。

表一

由表一的结构可知，本实用新型的实施例1至15在紫外光阻隔率、红外光阻隔率上都有优选的表现，所以可以证明本实用新型的不可见光遮蔽结构，在红外光及紫外光的遮蔽上有良好的效果。而不可见光遮蔽结构包含自洁层，则其水滴角大，不易受到水气污染，而能保持清洁。

虽然本实用新型已经以实施例公开如上，然其并非用以限定本实用新型，任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作各种变动与润饰，因此本实用新型的保护范围当视权利要求所界定者为准。