技术特征：
技术总结
本文所述的实施例大体涉及用于加热基板的设备。所述设备通常包括处理腔室，所述处理腔室具有基板支撑件于所述处理腔室中。多个灯被定位以提供通过光学透明拱形结构的辐射能量至位于所述基板支撑件上的基板。聚光组件位于所述腔室内，用以影响所述基板上的加热及温度分布，并且用以促进在基板上形成具有均匀特性的膜，所述特性比如密度。所述聚光组件能包括一或更多个反射器、光管或折射透镜。
技术研发人员：约瑟夫·M·拉内什
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2013.03.06
技术公布日：2018.05.18