应的速度比，在与投影光学系统PO的物体面平行的方向上(例如，图7中的X方向)扫描掩膜台MS和基板台WS。通过这样做，能够将掩膜55上形成的图案转印到基板56上。
[0049]例如，如图7所示，投影光学系统PO包括平面镜52、凹面镜53以及凸面镜54。从照明光学系统IL射出的并且通过掩膜55的曝光光的光路被平面镜52的第一面52a弯曲，并且入射在凹面镜53的第一面53a上。由凹面镜53的第一面53a反射的曝光光被凸面镜54反射，并且入射在凹面镜53的第二面53b上。由凹面镜53的第二面53b反射的曝光光的光路被平面镜52的第二面52b弯曲，并且在基板上形成图像。在如上所述构造的投影光学系统PO中，凸面镜54的表面用作光瞳。
[0050]在上述曝光装置50的结构中，上述实施例的光学装置可以被用作例如使用作镜I的凹面镜53的反射面变形的装置。通过在曝光装置50中使用上述实施例的光学装置，能够以高速度且高精度来使凹面镜53的反射面(第一面53a和第二面53b)变形，并且能够实时且高精度校正投影光学系统PO中的光学像差。曝光装置50中的控制单元51可以包括用于控制根据上述实施例的光学装置中的各致动器2的控制单元8。在根据上述实施例的光学装置用作使凹面镜53的反射面变形的装置的情况下，图7中的X方向、Y方向和Z方向分别对应于图1和图5中的-Z方向、Y方向和X方向。
[0051]物品的制造方法的实施例
[0052]根据本发明的实施例的物品的制造方法适合于制造物品(例如，诸如半导体设备的微设备或具有微结构的元件)。本实施例的物品的制造方法包括:通过使用上述曝光装置来将潜像图案形成在涂布了感光剂的基板上的步骤(利用光对基板进行曝光的步骤)；以及对在上述步骤中形成有潜像图案的基板进行显影的步骤。该制造方法还包括其他公知步骤(氧化、成膜、气相沉积、掺杂、平坦化、蚀刻、光刻胶去除、切割、粘合和封装等)。与传统方法相比，根据本实施例的物品的制造方法的优势在于物品的性能、质量、生产率以及生产成本中的至少一者。
[0053]虽然参照示例性实施例对本发明进行了描述，但是应当理解，本发明不限于所公开的示例性实施例。应当对所附权利要求的范围给予最宽的解释，以使其涵盖所有这些变型例以及等同的结构和功能。
【主权项】
1.一种使镜的反射面变形的光学装置，所述光学装置包括: 底板； 多个致动器，其被布置在所述底板与所述镜之间，并且被构造为对所述镜施加力； 检测单元，其被构造为检测所述底板中产生的振动；以及 控制单元，其被构造为基于所述检测单元进行的检测的结果来控制各致动器，使得作为所述底板中产生的振动的结果而引起的所述镜的变形在可接受的范围之内。2.根据权利要求1所述的光学装置， 其中，所述控制单元包括补偿器，所述补偿器被构造为基于所述检测单元进行的检测的结果，来确定用于控制各致动器的命令值，并且 所述控制单元通过将第一传递函数的倒数乘以第二传递函数来确定所述补偿器的传递函数，所述第一传递函数接收所述命令值的输入并输出所述镜的变形，所述第二传递函数接收所述底板的振动的输入并输出所述镜的变形。3.根据权利要求2所述的光学装置， 其中，所述控制单元通过针对各致动器获得在一个致动器对所述镜施加单位量的力的情况下的所述镜中的多个点中的各点移位的位移量，来确定所述第一传递函数。4.根据权利要求3所述的光学装置，所述光学装置还包括测量单元，所述测量单元被配设到所述镜，并且被构造为测量所述镜中的各点的位置， 其中，所述控制单元基于所述测量单元进行的测量的结果，来获得所述镜中的各点的位移量。5.根据权利要求2所述的光学装置，所述光学装置还包括振动单元，所述振动单元被构造为对所述底板施加振动， 其中，所述控制单元在所述振动单元对所述底板施加振动的情况下，通过获得所述镜中的多个点中的各点的位移量，来确定所述第二传递函数。6.根据权利要求5所述的光学装置，所述光学装置还包括测量单元，所述测量单元被配设到所述底板，并且被构造为测量所述镜中的各点的位置， 其中，所述控制单元基于所述测量单元进行的测量的结果，来获得所述镜中的各点的位移量。7.根据权利要求1所述的光学装置， 其中，所述检测单元被配设到所述底板，并且检测所述底板的加速度作为所述底板中产生的振动。8.根据权利要求3所述的光学装置，所述光学装置还包括: 基准对象；以及 测量单元，其被配设到所述基准对象，并且被构造为测量所述镜中的各点的位置， 其中，所述控制单元基于所述测量单元进行的测量的结果，来获得所述镜中的各点的位移量。9.根据权利要求8所述的光学装置， 其中，所述检测单元被配设到所述基准对象，并且检测所述基准对象的加速度作为所述底板中产生的振动。10.根据权利要求1所述的光学装置， 其中，所述控制单元包括第二补偿器，所述第二补偿器被构造为基于所述镜的形状与目标形状之间的偏差，来确定用于控制各致动器的第二命令值。11.根据权利要求1所述的光学装置，所述光学装置还包括固定部件，所述固定部件被构造为将包括所述镜的中心的所述镜的一部分固定到所述底板。12.一种投影光学系统，其将掩膜图案投影到基板上，所述投影光学系统包括根据权利要求I所述的光学装置。13.—种曝光装置，其利用光对基板进行曝光，所述曝光装置包括根据权利要求12所述的投影光学系统。14.一种物品的制造方法，所述制造方法包括: 曝光步骤，使用曝光装置对基板进行曝光； 显影步骤，对所曝光的基板进行显影；以及 处理步骤，对所显影的基板进行处理以制造所述物品， 其中，所述曝光装置对所述基板进行曝光并且包括投影光学系统，所述投影光学系统将掩膜图案投影到所述基板上并且包括光学装置， 其中，所述光学装置使镜的反射面变形，所述光学装置包括: 底板； 多个致动器，其被布置在所述底板与所述镜之间，并且被构造为对所述镜施加力； 检测单元，其被构造为检测所述底板中产生的振动；以及 控制单元，其被构造为基于所述检测单元进行的检测的结果来控制各致动器，使得作为所述底板中产生的振动的结果引起的所述镜的变形在可接受的范围之内。
【专利摘要】本发明提供了光学装置、投影光学系统、曝光装置及物品的制造方法。所述光学装置使镜的反射面变形，所述光学装置包括：底板；多个致动器，其被布置在所述底板与所述镜之间，并且被构造为对所述镜施加力；检测单元，其被构造为检测所述底板中产生的振动；以及控制单元，其被构造为基于所述检测单元进行的检测的结果来控制各致动器，使得作为所述底板中产生的振动的结果引起的所述镜的变形在可接受的范围之内。
【IPC分类】G02B27/00, G02B26/08, G03F7/20
【公开号】CN105045044
【申请号】CN201510216833
【发明人】浅田克己
【申请人】佳能株式会社
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年4月30日
【公告号】US20150316852