一种疏水薄膜及其制备方法和应用与流程

文档序号:11146988阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种疏水功能薄膜,其特征在于,所述疏水功能薄膜是由聚四氟乙烯纳米线形成的三维网络多孔结构,所述聚四氟乙烯纳米线的直径范围10~100纳米,长度范围1~100微米。

2.根据权利要求1所述的疏水功能薄膜,其特征在于,所述疏水功能薄膜的气孔率在10~90%范围内可控。

3.根据权利要求1或2所述的疏水功能薄膜,其特征在于,所述疏水功能薄膜的光学折射率在1.20~1.65之间可调。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的疏水功能薄膜,其特征在于,所述疏水功能薄膜的膜厚在20~5000纳米范围内可控。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的疏水功能薄膜,其特征在于,所述疏水功能薄膜的水接触角在110~160°范围内可控。

6.一种权利要求1至5中任一项所述的疏水功能薄膜的制备方法,其特征在于,采用真空蒸发镀膜方式,包括:加热聚四氟乙烯材料,本底真空8*10-4~4*10-4 Pa,基底温度25℃~300℃,镀膜时间5~60分钟,蒸发温度为25~500℃。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,工作电流为35~50A,优选为40~50A,工作气压为1*10-3~1*10-2 Pa。

8.根据权利要求6或7所述的制备方法,其特征在于,基底为普通玻璃、有机高分子、金属、硅片、电路板、或陶瓷。

9.一种权利要求1至5中任一项所述的疏水功能薄膜在建筑,汽车,机械,光学及电子器件领域的应用。

10.根据权利要求9所述的应用,其特征在于,将所述疏水功能薄膜作为多孔模板用于制备其他薄膜材料。

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