本实用新型涉及一种实验器具,具体涉及一种用于薄片金属试样蚀刻的模具。
背景技术:
蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。指通过一定技术手段,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
蚀刻技术最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
在蚀刻薄层金属箔时,蚀刻设备必须保证能平稳的,可靠地处理薄金属箔,必须保证金属箔不被擦伤或划伤。因此目前的金属箔蚀刻设备都较为复杂,且价格昂贵。
技术实现要素:
本实用新型为解决现有薄片金属试样蚀刻时容易发生变形,影响蚀刻效果等问题,进而提供一种用于薄片金属试样蚀刻的模具。
本实用新型为解决上述技术问题采取的技术方案是:
本实用新型的一种制作离子减薄样品台的模具包括壳体(1)、弹簧(2)、定位杆(3)、垫板(4)和橡胶垫(5);壳体(1)为匚形,其下面板中心处设有圆形通孔,上面板中心处设有定位杆(3),定位杆(3)为圆柱形,弹簧(2)套在定位杆(3)的外表面上,弹簧(2)下端连接在垫板(4)上,垫板(4)为圆片状,内部设有圆形通孔,垫板(4)下面设有橡胶垫(5),橡胶垫(5)为圆片状,内部设有圆形通孔,橡胶垫(5)放置在壳体(1)的下面板上表面处。本实用新型用于薄片金属试样(6)的蚀刻。
本实用新型具有以下有益效果:
一、利用壳体(1)下面板和垫板(4)的平整表面,可以将金属箔或薄片金属试样(6)固定为绝对平整状态,减少蚀刻过程中由于金属形变对蚀刻效果的影响,降低了实验失败的可能,减少了薄片金属试样(6)的加工成本。
二、本实用新型的模具采用绝缘塑料材质制作,表面抛光,具有尺寸稳定,精度高,不与蚀刻溶液发生电化学反应,所蚀刻的薄片金属试样(6)表面质量高,重复性好等优点。
附图说明
图1是本实用新型的主视图;
图2是本实用新型壳体(1)的主视剖面图;
图3是图2的沿A-A截面的俯视截面图;
图4是图2的沿B-B截面的左视截面图;
图5是本实用新型使用时的局部放大图。
具体实施方式
具体实施方式一:结合图1-4说明本实施方式,所述模具包括壳体(1)、弹簧(2)、定位杆(3)、垫板(4)和橡胶垫(5);壳体(1)为匚形,其下面板中心处设有圆形通孔,上面板中心处设有定位杆(3),定位杆(3)为圆柱形,弹簧(2)套在定位杆(3)的外表面上,弹簧(2)下端连接在垫板(4)上,垫板(4)为圆片状,内部设有圆形通孔,垫板(4)下面设有橡胶垫(5),橡胶垫(5)为圆片状,内部设有圆形通孔,橡胶垫(5)放置在壳体(1)的下面板上表面处。
具体实施方式二:结合图1-图4说明本实施方式,壳体(1)和垫板(4)均由绝缘塑料材质构成,防止蚀刻过程中产生电化学腐蚀,其它组成及连接关系与具体实施方式一相同。
具体实施方式三:结合图1-图4说明本实施方式,垫板(4)和橡胶垫(5)上的圆形通孔直径与壳体(1)下面板上的圆形通孔直径相等。其它组成及连接关系与具体实施方式一相同。
具体实施方式四:结合图1-图4说明本实施方式,垫板(4)和橡胶垫(5)的直径大于所要蚀刻的薄片金属试样(6)的直径,其它组成及连接关系与具体实施方式一相同。
工作原理
结合图5说明本实用新型工作原理,将所需蚀刻的薄片状金属试样(6)放置在壳体(1)下面板上,薄片状金属试样(6)所需蚀刻位置对应壳体(1)下面板圆形通孔,然后将橡胶垫(5)放置在薄片状金属试样(6)上,将垫板(4)放置在橡胶垫(5)上,垫板(4)及橡胶垫(5)上的圆形通孔位置对应壳体(1)下面板圆形通孔;将弹簧(2)套在定位杆(3)上,利用弹簧(2)固定住垫板(4)及橡胶垫(5),将本实用新型置于蚀刻液中,即可实现薄片金属试样(6)的无变形蚀刻。