一种镀膜基膜放置台及镀膜机的制作方法

本实用新型涉及镀膜机领域，尤其涉及一种带有镀膜基膜放置台及镀膜机。

背景技术：

目前，镀膜机按照其应用领域很广泛，可以分为电子蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机、等离子镀膜机、射频镀膜机、关学镀膜机设备等等，但是他们的结构差不多：主要有三大部分组成：真空主体——真空腔，辅助排气系统(包括排气系统、真空测量系统)、蒸发系统(包括坩埚及回转控制系统、电子枪柜)、成膜控制系统。主要用于五金件、玻璃工艺品、陶瓷工艺品等，如手表、手机金属壳、电脑、洁具、刀具、模型、电子产品、塑料制品、亚克力板材、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、化妆包等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建料等行业、灯具、手机视窗、眼睛、舞台灯光等。在电容的制造过程中也需要进行镀膜处理。现在多采用基膜处理，再在基膜上进行金属镀膜处理，后处理之后，得到成品。有的需要进行金属加厚处理，有的成品需要镀单边金属，有的需要镀双面金属。其中膜的均匀性会直接影响电容的性能。现有的镀膜基膜放置台大多是一个直接的旋转台，可以实现单边镀膜；或者直接使用卷绕方式，实现双边镀膜。这样会造成单边镀膜与双边镀膜需要进行分开处理，而造成成本增加。与此同时，大多数的单边镀膜的旋转台无法精确控制旋转角度，很难灵活的控制基膜的镀膜位置，实现精确镀膜。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于：针对上述有单边镀膜与双边镀膜的所需处理台的结构不一致而导致的机器成本增加的问题，本实用新型提供一种可以实现单边镀膜也可以实现双边镀膜的镀膜基膜放置台以及带有镀膜基膜放置台的镀膜机。

本实用新型采用的技术方案如下：

一种镀膜基膜放置台,包括呈圆台状的固定台，固定台上呈同心圆设置的圆柱形旋转台，固定台内部设置有用于驱动旋转台旋转的旋转驱动机构，旋转台沿径向开设有凹槽，凹槽内设置有左限位块与右限位块，旋转台开设有孔，支撑架通过螺栓固定在旋转台上，支撑架上固定有至少两个卷绕棍。

旋转驱动机构可以是步进电机和丝杠组成，也可以选用其他驱动旋转台旋转即可。当需要进行单边镀膜时，可以直接将基膜置于左右限位块之间就可以。即使在密闭空间，每个位置的温度存在区别；镀膜时候进行旋转，可以使得基膜受热均匀，这样能提高镀膜的均匀度。旋转台上开设有孔，支撑架通过螺栓来固定在旋转台的孔上，通常需要四个孔，而具体的位置长度可以根据实际基膜的大小来确定。支架上固定有两个卷绕棍，卷绕棍的运方向不同，从而实现双边镀膜。同时操作起来也比较简单，不容易出错。也可以设置多个卷绕棍，合理设置位置以及运行情况，实现双边镀膜。

一种带有镀膜基膜放置台的镀膜机，包括镀膜罐体，镀膜罐体的下方设置有基膜放置台，罐体的顶端设置有法兰罩，罐体的底端设置有真空接入系统以及蒸发源；基膜放置台包括呈圆台的固定台，固定台上设置有呈同心圆设置的圆柱形旋转台，固定台内部设置有用于驱动旋转台旋转的旋转驱动机构，旋转台沿径向开设有凹槽，凹槽内设置有左限位块与右限位块，旋转台开设有孔，支撑架通过螺栓固定在旋转台上，支撑架上固定有至少两个卷绕棍。法兰罩实现密封，同时也可以在需要的时候取出；真空接入系统主要是维持罐体内的真空情况；蒸发源主要提供金属气化，然后金属气化之后进入到基膜上，实现镀膜。

具体地，罐体上设置有多个进气孔，进气孔配套设置有进气装置。有时候，需要进行通气，在罐体上开设多个孔，可以增大进气量，更好的提高镀膜的均匀度。

具体地，基膜放置台上的左限位块与右限位块与凹槽之间设置有沿径向设置有可调节螺栓。可调节螺栓可以调节左右限位块的位置，这样可以放置不同大小的基膜，同时也可以更好的将基膜夹在凹槽中。

具体地，旋转台与固定台上均设置有刻度线，刻度零点起始位置相同，旋转台上的刻度比固定台的刻度多。一般的旋转会在旋转台上设置刻度，但是当运动振动等会造成误差。利用游标卡尺的读数原理，将固定台与旋转台同直径位置处相应设置刻度。两个刻度结合，实现旋转度的精确读数，可以精确的控制基膜的旋转位置，实现精确镀膜，从而提高镀膜的均匀度。

具体地，罐体内部还设置有金属回收箱。金属回收箱主要用于回收被镀金属，实现资源回收。

具体地，蒸发室包括依次连接的蒸发器，气压表和蒸发出口。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

1.本实用新型巧妙的设置旋转台，在旋转台上增设限位块与导辊，从而实现单边镀膜与双边镀膜；同时结构简单，操作简单，不易出错。镀膜时候均旋转，提高镀膜的膜的均匀度。

2.在罐体上开设多个孔，可以增大进气量，更好的提高镀膜的均匀度。

3.可调节螺栓可以调节左右限位块的位置，可以增加旋转台的适用范围，同时也可以更好的固定基膜。

4.将固定台与旋转台同直径位置处相应设置刻度。两个刻度结合，实现旋转度的精确读数，可以精确的控制基膜的旋转位置，实现精确镀膜，从而提高镀膜的均匀度。

5.罐体内部还设置有金属回收箱。金属回收箱主要用于回收被镀金属，实现资源回收。

附图说明

图1是本实用新型基膜放置台的结构图；

图2是本实用新型基膜放置台的俯视图；

图3是本实用新型带有基膜放置台镀膜机的结构图；

图中标记：1-蒸发器；2-气压表；3-蒸发出口；4-进气孔；5-基膜放置台；6-金属回收箱；7-支撑柱；8-罐体；9-真空接入系统；10-支撑架；11-1-左限位块；11-2-右限位块；13-旋转台；14-固定台；15-可调节螺栓；17-卷绕棍；101-旋转台刻度；102-固定台刻度。

具体实施方式

本说明书中公开的所有特征，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。

下面结合图1、图2、图3对本发明作详细说明。

实施例1

一种镀膜基膜放置台,包括圆台状的固定台14，固定台14上呈同心圆设置的圆柱形旋转台13，固定台14内部设置有用于驱动旋转台13旋转的旋转驱动机构，旋转台(13)沿径向开设有凹槽，凹槽内设置有左限位块11-1与右限位块11-2，旋转台13开设有孔，支撑架10通过螺栓固定在旋转台13上，支撑架10上固定有两个卷绕棍17。

实施例2

在实施例1的基础上，一种带有镀膜基膜放置台的镀膜机，包括镀膜罐体8，罐体8的下方设置有基膜放置台5，罐体8的顶端设置有法兰罩，罐体8的底端设置有真空接入系统9以及蒸发室；基膜放置台5包括呈圆台状的固定台14，固定台14上有呈同心圆设置的圆柱形旋转台13，固定台14内部设置有用于驱动旋转台13旋转的旋转驱动机构，旋转台13沿径向开设有凹槽，凹槽内设置有左限位块11-1与右限位块11-2，旋转台13开设有孔，支撑架10通过螺栓固定在旋转台13上，支撑架10上固定有两个卷绕棍17，固定台14与支撑柱7相连，支撑柱设置在罐体8底端。

实施例3

在实施例2的基础上，罐体8上设置有8个进气孔4，进气孔4配套设置有进气装置。

实施例4

在实施例1或2或3的基础上，限位块与凹槽之间设置有沿径向设置有可调节螺栓15。

实施例5

在实施例1或2或3或4的基础上，旋转台13与固定台14上在直径相同处分别设置有旋转台刻度101与固定台刻度102，刻度零点起始位置相同，旋转台刻度101上的刻度数比固定台刻度102的刻度数多。

实施例6

在实施例2或3的基础上，罐体8内部还设置有金属回收箱6。

实施例7

在实施例1或2或6的基础上，蒸发室包括依次连接的蒸发器1，气压表2和蒸发出口3。