1.一种超薄氮化硼纳米片的合成方法，按下述步骤制备氮化硼纳米片：
(1)按质量比1:2～6称取六方氮化硼粉末和高锰酸钾粉末，研磨成为均匀的混合粉末；
(2)将浓硫酸和磷酸按体积比8:1～2混合做反应溶剂；
(3)将过氧化氢和去离子水按体积比1:6～20混合并冷藏做混合溶液；
(4)将步骤(1)得到的混合粉末加入步骤(2)配好的混合酸反应溶剂中，加热至70～78℃搅拌反应10～14小时；再加入步骤(3)中经冷藏的混合溶液，在冰水浴条件下继续磁力搅拌1.5～2小时，得到混合液；
(5)将步骤(4)所得混合液进行超声处理，再运用转速为3000～5000rpm的低速离心10～30分钟，取上层清液，再运用转速为16000～20000rpm的高速离心10～30分钟，取上层清液；用无水乙醇和去离子水离心清洗直到pH>3，干燥后得到氮化硼超薄纳米片。
2.根据权利要求1所述的一种超薄氮化硼纳米片的合成方法，其特征在于，在步骤(1)中，所述六方氮化硼粉末与高锰酸钾粉末的质量比为1:6，六方氮化硼粉末的粒径为1～45微米。
3.根据权利要求1所述的一种超薄氮化硼纳米片的合成方法，其特征在于，在步骤(3)中，所述混合溶液，过氧化氢与去离子水的比例为1:10；混合溶液冷藏时间是12～24小时。
4.根据权利要求1、2或3所述的一种超薄氮化硼纳米片的合成方法，其特征在于，在步骤(5)中，所述超声处理的功率为60W，频率为40～60kHz，处理时间为10分钟。
5.根据权利要求1、2或3所述的一种超薄氮化硼纳米片的合成方法，其特征在于，在步骤(5)中，所述的离心处理，首先运用转速为3000rpm的低速离心，取上层清液；再运用转速为18000rpm的高速离心，取上层清液。