1.一种硅片加热扩散炉，其特征在于：包括炉体(1)和设置于炉体(1)内的多根炉管(2)，所述炉体(1)上设有控制柜(3)，所述炉管(2)相互间隔的横向装设于所述炉体(1)内，且炉管(2)的两端设为炉口(2a)和炉尾(2b)，且所述炉口(2a)和炉尾(2b)于所述炉体(1)上设有炉门(4)，所述炉管(2)的炉口(2a)、炉尾(2b)和炉管(2)的中部分别设有加热元件(5)，所述炉管(2)内设有石英层(6)，且炉管(2)的炉口(2a)和炉尾(2b)的外表面分别套设有石棉垫(7)和石棉圈(8)，所述控制柜(3)实时监控和控制炉体(1)内的温度。
2.如权利要求1所述的一种硅片加热扩散炉，其特征在于：所述炉管(2)连接有氮气管(9)，用于向炉管(2)内注入氮气防止硅片出现氧化的情况。
3.如权利要求1所述的一种硅片加热扩散炉，其特征在于：所述控制柜(3)通过控制系统控制，且所述控制系统连接有电源模块、加热模块、温控模块、温度补偿模块和气流控制模块，所述加热模块通过控制系统控制其对炉管(2)加热升温，并可温度补偿模块进行补偿加热调节炉管(2)内温度的稳定性，所述气流控制模块用于控制进入炉管(2)内的气流大小。
4.如权利要求3所述的一种硅片加热扩散炉，其特征在于：所述炉管(2)的炉口(2a)、炉尾(2b)和炉管(2)的中部均设有温控模块，用于监控三点温度的一致性。
5.如权利要求1所述的一种硅片加热扩散炉，其特征在于：所述石棉垫(7)和石棉圈(8)套设于所述炉口(2a)和炉尾(2b)上，且所述石棉圈(8)上设有拉手(8a)，以便于安装和拆卸。