用于显示器用元件、光学用元件、照明用元件或传感器元件的制造的芳香族聚酰胺溶液的制作方法_4

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面上,也可以形成于两面。
[0154] 2.薄膜晶体管
[0155] 薄膜晶体管B具有栅电极200、栅极绝缘膜201、源电极202、活性层203和漏电极 204。薄膜晶体管B形成于阻气层101上。
[0156] 栅电极200、源电极202以及漏电极204为由氧化铟锡(ΙΤ0)、氧化铟锌(ΙΖ0)、氧 化锌(ZnO)等形成的透明薄膜。作为形成透明薄膜的方法,可以列举溅射法、真空蒸镀法、 离子镀法等。这些电极的膜厚通常为50nm~200nm左右,但是,并不限定于该厚度。
[0157] 栅极绝缘膜201为由Si02、A1203等形成的透明绝缘薄膜,由溅射法、CVD法、真空 蒸镀法、离子镀法等形成。栅极绝缘膜201的膜厚通常为10nm~1μπι左右,但是并不限定 于该厚度。
[0158] 活性层203例如为单晶硅、低温多晶硅、非晶硅、氧化物半导体等,适时使用最佳 的物质。活性层由溅射法等形成。
[0159] 3.有机EL层
[0160] 有机EL层C具有导电性的连接部300、绝缘性的平坦化层301、作为有机EL元件1 的阳极的下部电极302、空穴输送层303、发光层304、电子输送层305、以及作为有机EL元 件1的阴极的上部电极306。有机EL层C至少形成于阻气层101上或薄膜晶体管B上,下 部电极302与薄膜晶体管B的漏电极204通过连接部300电连接。此外,代替此,也可以为 下部电极302与薄膜晶体管B的源电极202通过连接部300连接。
[0161] 下部电极302为有机EL元件1的阳极,为氧化铟锡(ΙΤ0)、氧化铟锌(ΙΖ0)、氧化 锌(ZnO)等的透明薄膜。此外,由于能够获得高透明性、高导电性等,优选ΙΤ0。
[0162] 作为空穴输送层303、发光层304、电子输送层305,能够直接使用以往公知的有机 EL元件用材料。
[0163] 上部电极306,例如由将氟化锂(LiF)与铝(A1)分别成膜成5nm~20nm、50nm~ 200nm的膜厚的膜而形成。作为形成膜的方法,例如可以列举真空蒸镀法。
[0164] 另外,在制造底部发光(bottomemission)型的有机EL元件时,有机EL元件1的 上部电极306也可以为光反射性的电极。由此,在有机EL元件1产生、进入与显示侧反向 的上部侧的光,通过上部电极306向显示侧方向反射。因此,由于反射光也被用于显示,因 此能够提尚有机EL兀件的发光的利用效率。
[0165][显示器用元件、光学用元件或照明用元件的制造方法]
[0166] 本发明在其它的方式中,涉及显示器用元件、光学用元件或照明用元件的制造方 法。本发明的制造方法,在一个或多个实施方式中,是制造本发明的显示器用元件、光学用 元件或照明用元件的方法。另外,本发明的制造方法,在一个或多个实施方式中,是包括下 述工序的制造方法:将本发明的聚酰胺树脂溶液涂布到支撑材料上的工序;在上述涂布工 序后形成聚酰胺膜的工序;在上述聚酰胺膜的与上述支撑材料不接触的面形成显示器用元 件、光学用元件或照明用元件的工序。本发明的制造方法还可以包括将形成于上述支撑材 料上的显示器用元件、光学用元件或照明用元件从上述支撑材料剥离的工序。
[0167] <有机EL元件的制作方法的未被限定的一个实施方式>
[0168] 接着,以下利用附图对作为本发明的显示器用元件的制造方法的一个实施方式的 有机EL元件的制造方法的一个实施方式进行说明。
[0169]图4的有机EL元件1的制造方法包括固定工序、阻气层制作工序、薄膜晶体管制 作工序、有机EL层制作工序、封装工序以及剥离工序。以下,对各工序进行详细说明。
[0170] 1.固定工序
[0171] 在固定工序中,透明树脂基板100被固定于支撑材料500上。固定的方法没有特别 的限定,可以列举在支撑材料500与透明基板之间涂布粘合剂的方法、使透明树脂基板100 的一部分熔接于支撑材料500的方法等。另外,作为支撑的材料,例如使用玻璃、金属、硅或 树脂等。这些可以单独使用,也可以适时组合两种以上的材料使用。而且,也可以将脱模剂 等涂布于支撑材料500,在其上粘贴透明树脂基板100进行固定。在一个或多个实施方式 中,将本发明的聚酰胺树脂组合物涂布在支撑材料500上,通过干燥等形成聚酰胺膜100。
[0172] 2.阻气层制作工序
[0173] 在阻气层制作工序中,在透明树脂基板100上制作阻气层101。制作的方法没有特 别的限定,能够使用公知的方法。
[0174] 3.薄膜晶体管制作工序
[0175] 在薄膜晶体管制作工序中,在阻气层上制作薄膜晶体管B。制作的方法没有特别的 限定,能够使用公知的方法。
[0176] 4.有机EL层制作工序
[0177] 有机EL层制作工序包括第一工序和第二工序。在第一工序中,形成平坦化层301。 作为形成平坦化层301的方法,对感光性透明树脂可以列举旋涂法、狭缝涂布法、喷墨法 等。此时,为了在第二工序中形成连接部300,需要预先在平坦化层301设置开口部。平坦 化层的膜厚通常为l〇〇nm~2μm左右,但是并不限定于此。
[0178] 在第二工序中,首先同时形成连接部300和下部电极302。作为形成这些的方法, 可以列举溅射法、真空蒸镀法、离子镀法等。这些电极的膜厚,通常为50nm~200nm左右, 但是,并不限定于此。此后,形成空穴输送层303、发光层304、电子输送层305、以及作为有 机EL元件1的阴极的上部电极306。作为形成这些的方法,能够使用真空蒸镀法或涂布法 等、适合所使用的材料和叠层结构的方法。另外,有机EL元件1的有机层的结构,不限于本 实施例的记载,也可以取舍选择其他空穴注入层、电子输送层、空穴阻挡层、电子阻挡层等、 公知的有机层。
[0179] 5.封装工序
[0180] 在封装工序中,有机EL层C通过封装部件400从上部电极306上被封装。作为封 装部件400,能够由玻璃、树脂、陶瓷、金属、金属化合物或者它们的复合体等形成,能够适时 选择最佳的材料。
[0181] 6.剥离工序
[0182] 在剥离工序中,将制作的有机EL元件1从支撑材料500剥离。作为实现剥离工序 的方法,可以列举例如物理地从支撑材料500剥离的方法。此时,也可以在支撑材料500上 设置剥离层,也可以在支撑材料500与显示元件之间插入金属线(wire)进行剥离。另外, 作为其它方法,可以列举:并非仅在支撑材料500的端部设置剥离层,而是在元件制作后从 端部切断内侧,取出元件的方法;在支撑材料500与元件之间设置由硅层等形成的层,通过 照射激光进行剥离的方法;对支撑材料500加热,将支撑材料500与透明基板分离的方法; 利用溶剂除去支撑材料500的方法等。这些方法可以单独使用,也可以组合任意的多种方 法使用。在一个或多个实施方式中,聚酰胺膜与支撑材料之间的粘接能够利用硅烷偶联剂 进行控制,由此有机EL元件1能够物理地剥离,而不使用上述复杂工序。
[0183] 通过本实施方式中的显示器用、光学用、或照明用的元件的制造方法得到的有机 EL元件,在一个或多个实施方式中,透明性、耐热性、低线膨胀性、低光学各向异性等优异。
[0184][表示装置、光学装置、照明装置]
[0185] 本发明在其方式中,涉及使用了本发明的显示器用元件、光学用元件或照明用元 件的显示装置、光学装置或照明装置,另外也涉及了它们的制造方法。并不限定于这些,作 为上述显示装置,可以列举摄像元件等,作为光学装置,可以列举光/电复合电路等,作为 照明装置,可以列举TFT-IXD、0EL照明等。
[0186][传感器元件的制造方法]
[0187] 本发明在其它的方式中,涉及包括下述工序(A)和(B)的传感器元件的制造方法。
[0188] (A)将本发明的聚酰胺溶液涂布到支撑材料上,在上述支撑材料上形成聚酰胺膜 的工序。
[0189] (B)将传感器元件形成于上述聚酰胺膜的表面上的工序。
[0190] 作为上述支撑材料,能够使用上述的支撑体。
[0191] 本方式的制造方法的工序(A)中,可以形成叠层复合材料。本方式的制造方法的 工序(A),在一个或多个实施方式中,包括下述工序(i)和(ii)。
[0192] (i)将上述的聚酰胺溶液涂布到支撑材料上的工序(参照图1工序A)。
[0193] (ii)在工序(i)后,对所涂布的聚酰胺溶液进行加热,形成聚酰胺膜的工序(参照 图1工序B)。
[0194] 工序⑴中的涂布和工序(ii)的加热温度能够与上述同样设定。本方式的制造 方法也可以包括在工序(ii)后使聚酰胺膜固化的固化处理工序(iii)。固化处理的温度和 时间能够与上述同样设定。
[0195] 本方式的制造方法的工序(B)中的传感器元件的形成没有特别限定,能够根据制 造以往或今后制造的元件的传感器元件适当形成。
[0196] 本方式的制造方法,在一个或多个实施方式中,作为工序(B)后的工序(C),包括 将所形成的传感器元件从玻璃板剥离的工序。剥离工序(C)中制作的传感器元件从支撑材 料剥离。作为实现剥离工序的方法,可以与上述同样地进行。
[0197] [传感器元件]
[0198] 本发明中,"传感器元件"是能够用于输入设备的传感器元件。作为本发明中的"传 感器元件",在未被限定的一个或多个实施方式中,为具备由本发明的聚酰胺溶液形成的聚 酰胺膜的传感器元件。另外,在其它的一个或多个实施方式中,本发明的"传感器元件"为 形成于在支撑材料上形成的聚酰胺膜上的传感器元件,在另外其它的一个或多个实施方式 中,为根据需要从上述支撑材料剥离的传感器元件。作为该传感器元件,在一个或多个实施 方式中,可以列举能够接收电磁波的传感器元件、能够检测出磁场的传感器元件、能够检测 静电容量变化的传感器元件、或能够检测压力变化的元件。该传感器元件,在一个或多个实 施方式中,可以列举摄像元件、放射线传感器元件、光传感器元件、磁传感器元件、静电容量 传感器元件、触摸传感器元件或压力传感器元件等。作为上述放射线传感器元件,在一个或 多个实施方式中,可以列举X射线传感器元件。本发明中的传感器元件,在一个或多个实施 方式中,包括使用本发明的聚酰胺溶液制得的传感器元件、和/或、使用本发明的叠层复合 材料制得的传感器元件、和/或、通过本发明中的元件的制造方法制得的传感器元件。另 外,本发明中的传感器元件的形成,在一个或多个实施方式中,包括形成光电转换元件及其 驱动元件的步骤。
[0199] [输入设备]
[0200] 本发明中,作为使用"传感器元件"的输入设备,在一个或多个实施方式中,可以列 举光学、摄像、磁性、静电容量或压力的输入设备。作为该输入设备,在未被限定的一个或多 个实施方式中,可以列举放射线的摄像装置、可见光的摄像装置、磁性传感器设备、触摸面 板、指纹认证面板、使用压电元件的发光体等。作为上述放射线的摄像装置,在一个或多个 实施方式中,可以列举X射线的摄像装置。另外,本发明中的输入设备,在未被限定的一个 或多个实施方式中,也可以具有作为显示器功能等的输出设备的功能。因此,本发明在其它 方式中,涉及使用了通过本方式的制造方法制得的传感器元件的输入设备、及其制造方法。
[0201] <传感器元件的未被限定的一个实施方式>
[0202] 以下利用图5对能够利用本方式的制造方法制造的传感器元件的一个实施方式 进行说明。
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