>[0143] 由实施例1和比较例1判明，如果研磨组合物中包含溴化钾，则研磨速率显著地提 高。比较例2是专利文献1中所示的在多元醇中分散有金刚石的研磨组合物。与实施例1 相比，研磨速率低，判明当仅是在多元醇中分散了金刚石时得不到充分的研磨速率。比较例 3是专利文献2中所示的以胶体二氧化硅为磨粒的包含盐化合物的研磨组合物。判明即使 在研磨组合物中包含盐化合物，在磨粒为胶体二氧化硅的情况下，在实用上也得不到充分 的研磨速率。由实施例4判明如果添加步 < 文530,则研磨速率进一步提高。
[0144] 由实施例2~8判明，为使研磨速率进一步提高，溴化钾的添加量优选为0. 1质 量％以上，如果超过10质量％，则其效果的程度变低。
[0145] 在实施例9中，使用了多晶金刚石来代替单晶金刚石。由此判明，如果使用多晶金 刚石，则能够实现更进一步高的研磨速率。
[0146] 根据实施例10~14判明，包含溴化钾和聚丙烯酸的浆液，能够遍及pH6. 5~ ρΗΙΟ. 4的弱酸性~碱性的大的范围地得到高的研磨速率。
[0147] 根据实施例15、16判明，在聚丙烯酸的重均分子量为5000~250000的范围时能 够得到高的研磨速率。
[0148] 根据实施例17、18能够确认到，即使使用氯化钾、氯化钠来代替溴化钾，也能够使 研磨速率显著提高。与此相对，根据比较例4,即使作为无机酸使用硝酸，也得不到使用溴化 钾那样的添加情况下的研磨速率的提高效果。由此判明，相比于硝酸，与盐酸、氢溴酸形成 的盐带来提高研磨速率的效果。
[0149] 在比较例5、6中，使用了有机酸与钾的盐来代替无机酸。当采用作为一元羧酸的 乙酸的盐和作为二元羧酸的草酸的盐时，不能确认到提高研磨速率的效果。
[0150] 在实施例19中，作为高分子化合物使用了作为聚磺酸的Na盐的A6012。判明在添 加了聚磺酸的情况下也能够得到高的研磨速率。在实施例20和21中，作为高分子化合物 添加了作为聚马来酸的y >示一;P PMA-50W。判明：在添加了 y y示一;PMA-50W的情况 下，在pHl. 2和pH9. 0的强酸性~碱性的大范围中能够得到高的研磨速率。
[0151] 在实施例22中将主溶剂变更为丙二醇，在实施例23中将主溶剂变更为二甘醇。由 它们的结果判明，在将主溶剂从乙二醇变更为丙二醇、二甘醇的情况下也能够得到高的研 磨速率。
[0152] 在实施例24~27中，以研磨组合物总量为基准，将分散介质中的水从10质量％ 增量至40质量％。在比较例7中，以研磨组合物总量为基准，将分散介质中的水增量至50 质量％。由它们的结果判明，如果以研磨组合物总量为基准，分散介质中的水为40质量％ 以下，则能够维持高的研磨速率，但如果其超过40质量％，则研磨速率降低。
[0153] 评价了在实施例28中利用添加了溴化钾的研磨组合物研磨后的蓝宝石基板的表 面粗糙度Ra，并且评价了在比较例8中利用以胶体二氧化硅为磨粒、且添加了氯化钠来作 为盐化合物的研磨组合物研磨后的蓝宝石基板的表面粗糙度Ra。由它们的结果判明，以金 刚石为磨粒且添加了溴化钾的研磨组合物兼具高的研磨速率和良好的表面粗糙度。比较例 8的研磨组合物，研磨速率极低，因此在GC两面研磨精加工的阶段并没有削去残留的表面 粗糙，研磨后的表面粗糙度Ra变差。
[0154] 由以上的结果判明，通过并用碱金属与无机酸的盐、以及高分子化合物和/或其 盐，与不包含它们或只包含碱金属与无机酸的盐的研磨组合物相比，能够得到能实现高的 研磨速率的研磨组合物。
【主权项】
1. 一种研磨组合物，配合有： 包含金刚石的磨粒； 选自氯化氢和溴化氢中的至少1种物质的碱金属盐；和 分散介质， 以研磨组合物总量为基准，该碱金属盐为0. 05质量％以上10质量％以下， 以研磨组合物总量为基准，该分散介质中的水为2. 0质量％以上40质量％以下。2. 根据权利要求1所述的研磨组合物，其还配合有高分子化合物，所述高分子化合物 相对于研磨组合物总量为〇. 05质量％以上5质量％以下。3. 根据权利要求2所述的研磨组合物，所述高分子化合物是选自聚羧酸、聚羧酸的盐、 聚磺酸和聚磺酸的盐中的至少1种。4. 根据权利要求1~3的任一项所述的研磨组合物，所述分散介质为混合物，所述混合 物包含选自乙二醇、二甘醇和丙二醇中的单独1种或2种以上、和水。5. 根据权利要求1~4的任一项所述的研磨组合物，所述金刚石的平均粒径为0. 5 y m 以上10 y m以下。6. 根据权利要求5所述的研磨组合物，所述金刚石的平均粒径为I y m以上8 y m以下。7. 根据权利要求6所述的研磨组合物，所述金刚石的平均粒径为2 y m以上6 y m以下。8. 根据权利要求1~7的任一项所述的研磨组合物，所述包含金刚石的磨粒的含量相 对于研磨组合物总量为0. 03质量％以上3质量％以下。9. 根据权利要求8所述的研磨组合物，所述包含金刚石的磨粒的含量相对于研磨组合 物总量为〇. 06质量％以上1. 5质量％以下。10. 根据权利要求9所述的研磨组合物，所述包含金刚石的磨粒的含量相对于研磨组 合物总量为〇. 09质量％以上I. 0质量％以下。11. 根据权利要求1~10的任一项所述的研磨组合物，以研磨组合物总量为基准，所述 碱金属盐为0. 1质量％以上10质量％以下。12. 根据权利要求11所述的研磨组合物，以研磨组合物总量为基准，所述碱金属盐为 0. 5质量％以上5质量％以下。13. 根据权利要求1~12的任一项所述的研磨组合物，以研磨组合物总量为基准，所述 分散介质中的水为2. 0质量％以上30质量％以下。14. 根据权利要求13所述的研磨组合物，以研磨组合物总量为基准，所述分散介质中 的水为2. 0质量％以上20质量％以下。15. 根据权利要求1~14的任一项所述的研磨组合物，所述分散介质的含量相对于研 磨组合物总量为60质量％以上且低于99. 95质量％。16. 根据权利要求15所述的研磨组合物，所述分散介质的含量相对于研磨组合物总量 为70质量％以上且低于99. 95质量％。17. 根据权利要求16所述的研磨组合物，所述分散介质的含量相对于研磨组合物总量 为80质量％以上且低于99. 95质量％。18. 根据权利要求2~17的任一项所述的研磨组合物，相对于研磨组合物总量，配合有 0. 1质量％以上1质量％以下的所述高分子化合物。19. 根据权利要求18所述的研磨组合物，相对于研磨组合物总量，配合有0. 2质量％以 上0. 7质量％以下的所述高分子化合物。20. 根据权利要求1~19的任一项所述的研磨组合物，所述碱金属盐为溴化钾。21. -种基板的研磨方法，使用权利要求1~20的任一项所述的研磨组合物对基板进 行研磨，所述基板包含选自蓝宝石、碳化硅、氮化镓和氮化铝中的至少1种材料。22. 根据权利要求21所述的基板的研磨方法，所述基板为蓝宝石基板，为发光二极管 用基板。
【专利摘要】提供针对蓝宝石基板之类的高硬度和高脆性材料能够提高研磨速率的研磨组合物、和使用该研磨组合物的基板研磨方法。本发明涉及的研磨组合物，配合有包含金刚石的磨粒、选自氯化氢和溴化氢中的至少1种物质的碱金属盐、和分散介质，以研磨组合物总量为基准，该碱金属盐(B成分)为0.05质量％以上10质量％以下，以研磨组合物总量为基准，该分散介质中的水为2.0质量％以上40质量％以下。
【IPC分类】H01L21/304, C09K3/14, H01L21/3105
【公开号】CN104974714
【申请号】CN201510152020
【发明人】藤本广志, 黑岩美铃
【申请人】昭和电工株式会社
【公开日】2015年10月14日
【申请日】2015年4月1日