1.一种清洗装置，其包含：
第一槽，其包括第一槽体及至少一个第一超声波震荡器；
第二槽，其包括第二槽体及至少一个高压喷洗设备；
第三槽，其包括第三槽体及至少一个第三超声波震荡器；及
第四槽，其包括第四槽体及至少一个第四超声波震荡器。
2.根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述第一槽体是为抗碱腐蚀材质。
3.根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述第三槽体是为抗酸腐蚀材质。
4.根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述第一槽体是用于容纳碱性清洗液，所述第二槽体是用以容纳水，所述第三槽体是用于容纳酸性清洗液，所述第四槽体是用以容纳水。
5.根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述第一槽更包括热交换器及冷却系统。
6.根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述第一槽体的材质是为不锈钢。
7.根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述第二槽的高压喷洗设备可沿所述第二槽体的高度方向上下移动。
8.根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述第二槽体的材质是为不锈钢或塑料。
9.根据权利要求1所述的清洗装置，其中所述第三槽更包括热交换器及冷却系统。
10.根据权利要求1所述的清洗装置，进一步包含吊挂设备，横跨所述第一槽体、所述第二槽体、所述第三槽体及所述第四槽体，所述吊挂设备可吊挂起至少一个待清洗工件，且将所述清洗工件依序搬移至所述第一槽体、所述第二槽体、所述第三槽体及所述第四槽体。
11.一种清洗待清洗工件的方法，其包含：
a)将至少一个待清洗工件浸置于碱性清洗液中，且对所述碱性清洗液提供超声波震荡；
b)将水以高压喷流方式冲洗所述待清洗工件；
c)将所述待清洗工件浸置于酸性清洗液中，且对所述酸性清洗液提供超声波震荡；及
d)将所述待清洗工件浸置于水中，且对所述水提供超声波震荡。
12.根据权利要求11所述的方法，其中在所述步骤a)中，所述待清洗工件是为IC衬底传送滚轮，所述碱性清洗液包括氢氧化钠(NaOH)及乙二醇单丁醚(Ethylene Glycol Monobutyl Ether)；所述步骤c)中，所述酸性清洗液包括硫酸(H2SO4)或硝酸(HNO3)及过氧化氢(H2O2)。
13.一种用于清洗IC衬底传送滚轮的清洗液，其包含：
约52.5wt％至约60wt％硫酸及/或硝酸；及
约6wt％至约8.75wt％过氧化氢。
14.根据权利要求13所述的清洗液，其是由浓度为70wt％至75wt％的硫酸溶液及/或硝酸溶液，及浓度为30wt％至35wt％的过氧化氢溶液所制备，其中所述硫酸溶液及/或硝酸溶液占所述清洗液的75wt％至80wt％，且所述过氧化氢溶液占所述清洗液的20wt％至25wt％。