1.一种水处理装置，其特征在于，包括控制系统、沉淀池、臭氧池、磁化装置和出水管；
所述沉淀池的上部与所述臭氧池的上部连通；所述臭氧池的底部设有臭氧发生装置，所述臭氧发生装置与所述控制系统信号连通；
所述出水管与所述臭氧池连通，所述磁化装置设置在所述出水管上。
2.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，
还包括第一水泵，所述第一水泵与所述控制系统信号连通；所述第一水泵的进口与外部的待处理水连通，所述第一水泵的出口与所述沉淀池的上部连通。
3.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，所述臭氧发生装置包括臭氧机、气管和泡石，所述臭氧机设有排气口；
所述气管的一端与所述排气口连接；所述气管的另一端与所述泡石连接。
4.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，所述臭氧池设有第一液位传感器和第二液位传感器，所述第一液位传感器和所述第二液位传感器与所述控制系统信号连通；
所述第一液位传感器设置在所述臭氧池的上部，所述第二液位传感器设置在所述第一液位传感器的下方。
5.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，所述臭氧池与所述出水管之间还设有水塔，所述臭氧池与所述水塔的顶部连通，所述出水管与所述水塔的底部连通。
6.根据权利要求5所述的水处理装置，其特征在于，还包括第二水泵，所述第二水泵与所述控制系统信号连通；
所述第二水泵的进口与所述臭氧池连通，所述第二水泵的出口与所述水塔的顶部连通。
7.根据权利要求5所述的水处理装置，其特征在于，所述水塔设置有第三液位传感器和第四液位传感器，所述第三液位传感器和所述第四液位传感器与所述控制系统信号连通；
所述第三液位传感器设置在所述水塔的上部，所述第四液位传感器设置在所述第三液位传感器的下方。
8.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，所述臭氧池与所述磁化装置之间还设有紫外线消毒装置。
9.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，还包括供电系统，所述供电系统包括太阳能发电板和光照度感应器，所述供电系统与所述控制系统信号连通。
10.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，还包括终端，所述控制系统通过互联网与所述终端信号连通。