1.一种碲镉汞薄膜材料的化学抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：
利用化学抛光液对所述碲镉汞薄膜材料进行N次化学抛光，其中，第i+1次化学抛光的去除厚度小于第i次化学抛光的去除厚度，其中，N≥3，1≤i≤N；
将经过N次化学抛光后的碲镉汞薄膜材料在表面处理液中进行表面处理。
2.如权利要求1所述的化学抛光方法，其特征在于，第i+1次化学抛光的去除厚度小于第i次化学抛光的去除厚度包括：
第1次化学抛光的去除厚度不超过去除总厚度的50％；
第i+1次化学抛光的去除厚度不超过第i次化学抛光去除厚度的60％。
3.如权利要求3所述的化学抛光方法，其特征在于，所述N为3～6；
第1次化学抛光的去除厚度为去除总厚度的45～50％；
第i+1次化学抛光的去除厚度为第i次化学抛光去除厚度的55～60％。
4.如权利要求1所述的化学抛光方法，其特征在于，所述第i次化学抛光利用的化学抛光液为第一化学抛光液或第二化学抛光液；
其中，所述第一化学抛光液为溴与甲醇和乙二醇组成的混合物，所述第二化学抛光液为氨水与双氧水组成的混合物。
5.如权利要求4所述的化学抛光方法，其特征在于，所述第一化学抛光液中甲醇与乙二醇的体积比为1:1～1:5，甲醇和乙二醇组成第一混合物，溴在第一混合物中的体积浓度为0.05％～0.5％。
6.如权利要求4所述的化学抛光方法，其特征在于，所述第二化学抛光液中氨水与双氧水的体积比为1:5～1:100。
7.如权利要求1所述的化学抛光方法，其特征在于，所述表面处理液为乳酸与乙二醇按照体积比1:10～1:80组成的混合物。
8.如权利要求1或7所述的化学抛光方法，其特征在于，所述将经过N次化学抛光后的碲镉汞薄膜材料在表面处理液中进行表面处理具体包括以下步骤：
将经过N次化学抛光后的碲镉汞薄膜材料在表面处理液中进行表面处理，处理时间为5～20s。
9.如权利要求1至8任意一项所述的化学抛光方法，其特征在于，所述碲镉汞薄膜材料通过外延法制备得到，所述外延法包括但不限于液相外延法、分子束外延法、金属有机化学气相沉积。