张应变锗MSM光电探测器及其制备方法与流程

文档序号:11102449阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开一种张应变锗MSM光电探测器及其制备方法。所述光电探测器包括衬底层,自所述衬底层第一表面向外,依次叠设有牺牲层、含锗层、应力源层、金属层;所述含锗层图形化形成中心区和周围区,所述中心区和所述周围区通过含锗桥梁连接成一体,由所述含锗层中心区、含锗桥梁和含锗周围区围成若干通孔;所述含锗层中心区的正下方无所述牺牲层;所述应力源层贯穿所述通孔和所述牺牲层、并延伸至所述衬底层第一表面;所述金属层嵌入所述应力源层,并与所述含锗层的中心区接通;所述金属层构成光电探测器的正极和负极。本发明光电探测器含锗层中可控的引入大的张应变,张应变达到2.0%以上,从而有效的提高MSM光电探测器的响应度。

技术研发人员:周志文;李世国;沈晓霞
受保护的技术使用者:深圳信息职业技术学院
文档号码:201611042854
技术研发日:2016.11.21
技术公布日:2017.05.10

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