技术总结
本实用新型涉及一种基板移送装置，提供一种基板移送装置，其作为以使得结束化学机械研磨工艺的基板放置的状态进行移送的装置，包括：移动主体；基板放置架，其从移动主体向下方延长并以互相面对的形式折曲且设置有两个以上的放置面，并且使得所述基板放置于所述放置面；流体供给部，其向所述基板供给液体，在为了清洗工艺而移送基板的期间，通过流体供给部持续性地供给液体来维持基板的湿润状态，从而即使在清洗工艺中发生错误也能防止基板受损。
技术研发人员：金大石
受保护的技术使用者：K.C.科技股份有限公司
文档号码：201621366061
技术研发日：2016.12.13
技术公布日：2017.10.03