一种电磁屏蔽膜的制作方法

文档序号:15483297发布日期:2018-09-18 23:11阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种电磁屏蔽膜,其特征在于,包括依次连接的离型膜层(1)、绝缘层(2)、金属层(4)、导电胶层(5)、保护膜层(6),所述绝缘层(2)与金属层(4)之间设有黑色绝缘层(3),所述导电胶层(5)还包括电磁波吸收剂,所述的离型膜层(1)厚度为30-90μm,绝缘层(2)厚度为1-5μm,黑色绝缘层(3)厚度为2-7μm,金属层(4)厚度为10-5000nm,导电胶层(5)厚度为3-30μm,保护膜层(6)厚度为25-90μm。

2.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽膜,其特征在于,所述离型膜层(1)和保护膜层(6)为非硅离型材料。

3.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽膜,其特征在于,所述绝缘层(2)和黑色绝缘层(3)为绝缘树脂层。

4.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽膜,其特征在于,所述金属层(4)为镀铜层或镀银层。

5.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽膜,其特征在于,所述导电胶层(5)为添加有导电粉的环氧树脂。

6.根据权利要求5所述的一种电磁屏蔽膜,其特征在于,所述导电粉为银粉、银包铜粉、铜粉、镍粉中的一种或几种的混合物。

7.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽膜,其特征在于,所述的电磁波吸收剂为碳纳米管、石墨烯、软磁铁和铁氧体中的一种或几种的混合物。

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