技术特征：
技术总结
本发明提供了一种电磁屏蔽膜及其制备方法，屏蔽膜包括依次接触的离型层、绝缘层、金属屏蔽层、导电胶层和保护层；绝缘层的原料包括分子量5万～20万g/mol的绝缘树脂、固化剂、填料和助剂；固化剂和分子量5万～20万g/mol的绝缘树脂中反应基团的摩尔比为1:0.5～0.8。本发明通过在特定比例下的固化剂和分子量5万～20万g/mol的绝缘树脂制得绝缘层，使其与金属屏蔽层的结合力较高。还具有较好的屏蔽性能、耐弯曲性能和较低高温涨缩比。该电磁屏蔽膜的金属屏蔽层和绝缘层的结合力为7.2～9.5N/cm；在10MHz～1GHz均能实现超过60dB的屏蔽效果；屏蔽膜的涨缩比小于0.035％；耐弯曲次数大于20次。
技术研发人员：田海玉
受保护的技术使用者：海宁卓泰电子材料有限公司
技术研发日：2018.05.30
技术公布日：2018.11.16