一种电磁波屏蔽膜的制作方法

文档序号:15483301发布日期:2018-09-18 23:11阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种电磁波屏蔽膜,其特征在于,至少包括一层电磁屏蔽层,所述电磁屏蔽层的一侧是粘接层,另一侧是绝缘层,所述绝缘层的至少一面是粗糙的,粗糙度为2~10μm。

2.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽膜,其特征在于,所述电磁屏蔽层为镀铜层或镀银层。

3.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽膜,其特征在于,所述粘接层为改性环氧树脂层、改性聚氨酯层或改性丙烯酸酯胶黏剂层。

4.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽膜,其特征在于,所述绝缘层为含有无机粒子的改性聚氨酯层、改性丙烯酸酯层或改性环氧绝缘油墨层。

5.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽膜,其特征在于,所述绝缘层与电磁屏蔽层间还有无机粒子胶粘层。

6.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽膜,其特征在于,所述粘接层的厚度为1~15μm。

7.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽膜,其特征在于,所述绝缘层的厚度为1~10μm。

8.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽膜,其特征在于,所述电磁屏蔽层的厚度为10~5000nm。

9.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽膜,其特征在于,所述粘接层的外表面还贴有保护膜。

10.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽膜,其特征在于,所述电磁波屏蔽膜还包括基底膜和/或保护膜。

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