用于压敏标签的改进的纯白膜的制作方法

本申请是要求2016年4月11日提交的美国临时专利申请序列号No.62/321,041优先权的专利合作条约申请，其内容在本文中通过参考全文引入。

发明领域

本发明的公开内容一般地涉及在宽泛的各种标记应用中使用的实质上不透明白色压敏标签。

发明背景

希望实现不透明白色外观的膜制造者常常使用两种公知技术之一。一种技术由添加TiO2颜料到膜结构的一层或多层中组成。另一种技术由采用空化剂例如聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)或碳酸钙(CaCO3)将膜的一层或多层空化组成。

一般而言，空化方法比较便宜且导致具有较低密度的高不透明性产品。然而，这带来严重的缺点，因为在一层或多层膜内存在孔隙会导致在Z-轴上增加的撕裂敏感性。空化层变为弱点，所述弱点还导致增加的视觉变形，例如皱褶和留下痕迹，当挤压时。

因此，消费者可优选使用着色或利用TiO2方法的“纯白”膜。然而，匹配空化膜的不透明度要求显著量重质且昂贵的颜料，和膜的密度可能是空化膜的几乎两倍。

因此需要提供充分地适合用于(FFU)压敏标记应用同时保留较高不透明性，吸引人的产率和盈利利润率，同时还维持抗Z-撕裂蔓延(膜裂开)的空化与着色很好平衡的组合。

发明概述

公开了空化的着色膜，其有益地提供与用着色膜(例如，TiO2颜料)通常获得的密度相比，密度较低且与用空化膜(例如通过使用PBT，CaCO3，或其他空化剂)通常获得的不透明度相比，不透明度较高(即较低的透光率)的膜，其要求相对较小量的着色，这代表显著的成本节约并产生比较轻质的膜。进一步地，已发现用于膜的空化和着色剂的仔细滴定(titration)减弱有时与空化膜有关的Z-撕裂蔓延和起皱问题。可根据本发明公开内容生产的白色膜可提供膜前述优势，可进一步塑造(fashion)所述优势以具有各种机械性能和/或满足FFU标准，其中包括例如用于压敏标记(PSL)应用。

附图说明

图1描绘了展示高产率，高不透明度和低Z-撕裂和/或起皱的平衡方法的示意图。

详细说明

为了方便起见，在提到附图中，使用以下的方向性术语，例如“以上”，“以下”，“上部”，“下部”，“前面”，“后面”，“顶部”，“底部”等。一般地，“以上”，“上部”，“向上”，“顶部”和类似术语是指远离地壳表面的方向，和“以下”，“下部”，“向下”，“底部”和类似术语是指朝向地壳表面的方向，但仅仅为了阐述性目的意指，和这些术语并不意味着限制本发明的公开内容。

现描述各种具体的实施方案，变体和实施例，其中包括为了理解目的，本文采用的例举实施方案和定义。尽管下述详细说明给出了具体的优选实施方案，但本领域技术人员要理解，这些实施方案仅仅是例举，和可按照其他方式实践本发明的公开内容。为了确定侵权的目的，本发明的范围是指任何权利要求，其中包括它们的等价范围，和与引述的那些相当的要素或限制。

公开了空化的着色膜，其有益地提供与用着色膜通常获得的密度相比，密度较低且与用空化膜(例如通过使用聚合物或矿物试剂，例如PBT，玻璃珠，环状烯烃聚合物和/或环状烯烃共聚物("COC")，沸石，CaCO3等，及其组合)通常获得的不透明度相比，不透明度较高，自始至终要求相对较小量着色的膜，这可以是显著的成本节约并产生比较轻质的膜。

与矿物空化剂碎片相比，聚合物空化剂可提供更加均匀的球形和较小的粒度。结果，这可导致层更加均匀的空化，且可导致更加有效的光阻挡和对Z-撕裂较小的敏感性，即可能因大孔隙引发的层开裂。增加的空化均匀度便于更大地推动层的空化，同时保持PSL关键性能在用于FFU目的的它们所要求的水平下。在工艺方面，选择拉伸条件和拉伸比，防止大的空化。关于产品结构，在这一方面中还选择不同层各自的组成和厚度比。

现回到图1，通过有用的空化、着色的多层聚烯烃膜的建议实施方案阐述了由这一公开内容支持的例举膜的研发方法。空化水平面位于水平轴上且以膜内空气的体积表达，即微米空气对微米膜。着色水平面位于垂直轴上且以膜内二氧化钛TiO2颜料的百分比表达。同样，可在其他例举的实施方案中使用额外或备选的白色颜料或其他着色颜料，但为了便于讨论，本文参考TiO2继续讨论。其他因素也影响膜的吸引力。例如，弯曲劲度可受到膜厚度影响，且可以几乎或完全不依赖于空化程度。值得注意的是，在实心和空化膜二者中膜的厚度常规地超过在标签应用中用于FFU的工业要求。因此，在PSL应用中FFU膜的整体方案是必须的以便矫正欠开发和防止过度开发的结构。

参考图1，这一附图阐述了采用50-60μm厚的膜，高产率，高不透明度和低Z-撕裂/起皱的平衡方案是可能的，相对于仅仅着色的配方，这提供用于PSL应用的充分FFU的纯白膜以及+10％的吸引人的产率。为了辅助展示支持，描绘了每一结构的分析，即A-I，正如在每一正方形的右上角中所指示的。

作为一个实例，使用构造D(中等着色，高度空化)和I(低着色，高度空化)，生产膜。与图1中的所有例举膜一样，共挤出的结构包括双轴取向的聚丙烯("BOPP")。在其他非描绘性例举实施方案中，膜的层可另外或备选地包括聚乙烯，乙烯和丙烯的共聚物，聚酯，及其共混物，其中聚乙烯-基聚合物应当比其他相当的聚丙烯芯等价物略厚，即至少大致厚10μm-30μm，以便提供用于标记应用的合适劲度。

关于膜构造D，在表2和4中示出了50μm和58μm实施方案的结构。如图1所示，膜D的密度为0.93g/cm³，透光率为28％和具有可接受的Z-撕裂，即“OK”。“OK”Z-撕裂意味着在胶带试验下，该实施方案没有破坏性地开裂或起皱，和因此在用于PSL应用的常规工业标准下，这些实施方案足够坚固和可接受。构造D位于图1中，因为在构造D中层的组合具有4-9％的着色，即中等水平，和0-5％的空化，即低的水平。消费者可优选大的产品产率，即比构造D提供的更大平方米膜/千克膜，因为可以理解，对于具有充分白色-不透明度和完整性的FFU膜来说，消费者想要花费较少。因此，图1阐述了同样旨在这一目的的额外的例举膜结构。

关于具有表1所示膜结构的膜构造I，这些高度空化和轻微着色的膜的密度为0.72g/cm³，透光率为20％，且基于分析，具有中等Z-撕裂。与膜构造D相比，膜构造I具有较低的密度，因为空化增加，而增加的空化会降低膜的Z-撕裂抵抗力。

扩展到其他膜构造导致构造并测试膜构造B和E。关于图1中具有表3所示膜结构的膜构造E，其密度为0.85g/cm³，透光率为24％，和Z-撕裂为“OK”。值得注意的是，与前面讨论的膜构造D和I相比，所有这三种性能强。也就是说，膜构造E具有低的密度，这意味着对于较低成本来说更加可用的膜，良好的透光率(其提供显著的白色-不透明性)，膜没有破坏性地裂开或起皱。

图1中本发明的另一个实施方案是膜构造B。也就是说，膜构造B的目的是增加不透明度，与至少膜构造E相比，尽管厚度增加8μm。此处具有表5所示膜结构的膜构造B具有与膜构造E大致相同的密度，且通过Z-撕裂试验而没有破坏。然而，膜构造B的不透明度显著增加到19％的透光率，这主要是因为在空化的着色膜内增加的着色浓度导致的。

图1中所示的例举的构造A，C，F，G，和H提供具有表1-7中描绘的一般化多层结构的扭拧(tweaked)变体的更多例举的膜，其中扭拧是对于它们在图1的图表上合适位置所需的空化和着色浓度来说的。对于在表6中的构造H和在表7中的构造F提供了详细的结构。发现构造C不是合适的，因为对于不透明度过度设计，从而导致不可接受地高的Z-撕裂，同时构造G也不适合于使用，因为不充分的着色和空化水平导致不透明度水平低。

正如以上讨论部分阐述的，在图1中列出的实施方案当中出现了图案。一般地，当人们在X轴上从左到右移动(较大的空化)时，膜的产率改进，因为密度下降。在相同的方向上，不透明度增加，但Z-撕裂劣化，因为空化增加。鉴于这些图案，调节着色(Y轴)可追加降低的空化，产生空化着色膜的混杂物，其在较低的成本/m²下仍然提供充足不透明白色膜。

在空化之后，在58-60μm和50μm的目标下生产下述例举的膜。熔融膜的树脂并在模头，例如T-模头内结合以供共挤出膜层，然后在骤冷辊上冷却并纵向("MD")拉伸到约4.6倍和横向("TD")拉伸到约8.2倍。在其他例举的BOPP实施方案中，可在约4-6倍的范围内，和更特别地，在约4.5-5.5倍的范围内发生MD-拉伸，其中在约100-150℃的范围内，和特别地在约110-125℃的范围内发生MD-拉伸温度。回到另一取向方向，可在约6-10倍范围内，和更特别地，在约7.5-9倍的范围内发生TD-拉伸，其中在约100-170℃的范围内，和特别地在约140-160℃的范围内发生TD-拉伸温度。对于不包括或仅仅部分包括BOPP组合物的例举结构来说，MD/TD拉伸量的范围和拉伸温度对于不同组合物来说将不同，这是本领域已知的。

表1(实施例1，图1中的构造I)

表2(实施例2，图1中的构造D)

表3(实施例3，图1中的结构E)

表4(实施例4，图1中的构造D)

表5(实施例5，图1中的构造B)

表6(实施例6，图1中的构造H)

表7(实施例7，图1中的构造F)

如前所述，供使用的一种可能的白色颜料是TiO2，它可以源自于母料。可能的空化剂是PBT，例如中等粘度等级的BASF B2550FC。CaCO3可以是额外或备选的空化剂。Ampacet AVK 60和Ampacet AVK 70分别来自于在聚丙烯内60％和70％TiO2的母料。聚丙烯均聚物的标准等级可以在芯层和/或衔接层中使用。可使用三元共聚物表皮，例如Borealis TD210或Basell Adsyl 5C39F乙烯-丙烯-丁烯三元共聚物，但可使用其他聚合物和/或共聚物，其中包括例如EP共聚物，LDPE，LLDPE，MDPE，HDPE，EVOH-基聚合物，丙烯酸类-基聚合物，马来酸酐-基聚合物，弹性体，其他聚合物，及其共混物。在表8中，提供来自图1中的膜构造B，D，E和I的物理性能的概述。

(*)-该Z-撕裂测试量化对芯开裂的敏感性，其中芯层是最弱的层，因为空化。所记录的力代表仅仅当发生膜断裂时的撕裂蔓延。若没有断裂，则所记录的值是无意义的，因为没有发生破坏。

1-计算以加工材料的所测量的屈服和密度为基础。

2-计算使用机械测微计和Mahr测试仪。

3-计算基于所测量的屈服和所测量的光学厚度，即密度＝(1/屈服)*(1000)*(1/光学厚度)

4-色值基于比色法标准；L＝白色/黑色，a＝红色/绿色，b＝蓝色/黄色

5-所使用的设备是Lorentzen&Wettre Bending Resistance测试仪

表8

Z-撕裂试验的目的是测量在z-轴上，即贯穿其厚度，膜开裂所要求的力。控制的试验提供可再现的结果。通过使用负载池，粘合剂胶带和膜样品进行测量。粘合剂胶带附着到负载池上并从膜样品表面起且相对于膜样品表面垂直牵拉。当膜从z-轴中分离时记录力。然后当牵拉胶带时，以平均值形式报道界面粘合，单位g/25.4mm。

可使用本文中所使用的“聚合物”指代均聚物，共聚物，互聚物，三元共聚物等。同样，“共聚物”可以指代含两种单体的聚合物或者含大于或等于三种单体的聚合物。

本文所使用的“中间”定义为多层膜中一层的位置，其中所述层位于两个其他识别层之间。在一些实施方案中，中间层可以与两个识别层中任意一层或这两层直接接触。在其他实施方案中，额外的层也可存在于中间层和两个识别层之一或二者之间。

本文中所使用的“弹性体”定义为在力下可延长或拉伸到其起始长度的至少100％，且一旦移除力，则快速(例如在5秒内)恢复到其起始尺寸的丙烯-基或乙烯-基共聚物。

本文中所使用的“基本上不含”定义为是指所提到的膜层大部分但并非完全不存在特定组分。在一些实施方案中，作为标准制造方法的结果，小量的该组分可存在于所提到的层内，其中包括回收膜碎屑和加工期间的边角料。

芯层

正如本领域技术人员已知的，多层膜的芯层最常见地为最厚的层且提供多层结构的基础。在一些实施方案中，芯层包括PP。在备选的实施方案中，芯也可含有比较小量的选自丙烯聚合物，乙烯聚合物，乙烯-丙烯共聚物，乙烯-丙烯-丁烯三元共聚物，弹性体，塑性体及其组合中的额外聚合物。尽管绝不限制，但合适的LLDPE的两个实例是：(1)熔融指数为1至3g/10min(在190℃-2.13Kg条件下测量)，密度为0.915至0.930g/cm³和熔融峰为115至135℃的那种。

除了前述以外，芯层可进一步包括一种或多种额外的添加剂，例如遮光剂，着色剂，爽滑剂，抗氧化剂，防雾剂，抗静电剂，填料，湿气阻挡添加剂，气体阻挡添加剂，及其组合，正如以下进一步详细地讨论的。合适的抗静电剂是ARMOSTAT^TM475(商购于Akzo Nobel,Chicago,Ill.)。

空化剂可以存在于芯层内，其用量小于30wt％，优选小于20wt％，最优选范围为2wt％至10wt％，基于芯层的总重量。

优选地，在芯层内添加剂的总量占芯层的最多约20wt％，但一些实施方案可在芯层内包括占芯层用量最多约30wt％的添加剂。

芯层的厚度范围可优选为约5μm至100μm，更优选约20μm至100μm，最优选30μm至70μm。

衔接层

典型地使用多层膜中的衔接层，以连接多层膜结构中的两层其他层，例如衔接层和密封剂层，且置放在这些其他层中间。衔接层可以具有与芯层相比相同或不同的组成。

在一些实施方案中，衔接层与芯层的表面直接接触。在其他实施方案中，另一层或多个层可以在芯层和衔接层的中间。衔接层可以包括一种或多种聚合物。另外，该聚合物可包括C2聚合物，C3聚合物，C2C3无规共聚物，C2C3C4无规三元共聚物，多相无规共聚物，C4均聚物，C4共聚物，茂金属聚合物，丙烯-基或乙烯-基弹性体和/或塑性体，或其组合。

在一些实施方案中，衔接层可以进一步包括一种或多种添加剂，例如遮光剂，颜料，着色剂，空化剂，爽滑剂，抗氧化剂，防雾剂，抗静电剂，抗粘连剂，填料，湿气阻挡添加剂，气体阻挡添加剂，及其组合，正如以下进一步详细地讨论的。

衔接层的厚度范围典型地为约0.50至25μm，优选约0.50μm至12μm，更优选约0.50μm至6μm，和最优选约2.5μm至5μm。然而，在一些较薄的膜中，衔接层的厚度可以是约0.5μm至4μm，或0.5μm至2μm，或0.5μm至1.5μm。

表皮层是任选的，和若存在的话，则在衔接层或芯层的外表面上提供。可提供表皮层以改进膜的阻挡性能，加工性，印刷性，和/或相容性以供金属化，涂布和/或层压到其他膜或基底上。

在一些实施方案中，表皮层包括选自聚乙烯聚合物或共聚物，聚丙烯聚合物或共聚物，乙烯-丙烯共聚物，乙烯-丙烯-丁烯("EPB")三元共聚物，丙烯-丁烯共聚物，乙烯-乙烯醇聚合物及其组合中的至少一种聚合物。优选地，聚乙烯聚合物是LLDPE，例如获自ExxonMobil Chemicals的Exceed^TM树脂，或者获自Prime Polymer的Evolue^TM树脂，或者获自Dow的Elite^TM树脂。合适的乙烯-丙烯共聚物是Fina 8573(商购于Fina Oil Company,Dallas,Tex.)。合适的EPB三元共聚物是Chisso 7510和7794(商购于日本Chisso Corporation)。对于涂布和印刷功能来说，表皮层可优选是表面处理的。对于金属化或阻挡性能来说，表皮层可含有LLDPE或乙烯乙烯醇基聚合物("EVOH")。合适的EVOH共聚物是EVAL^TMG176B或XEP 1300(商购于日本的Kuraray Company Ltd.)。

表皮层也可包括加工助剂添加剂，例如防粘连剂，抗静电剂，爽滑剂及其组合，正如以下进一步详细地讨论的。

表皮层的厚度取决于表皮层所打算的功能，但典型地范围为约0.50μm至3.5μm，优选约0.50μm至2μm，和在许多实施方案中，最优选为约0.50μm至1.5μm。此外，在较薄的膜实施方案中，表皮层的厚度范围为约0.50μm至1.0μm，或0.50μm至0.75μm。

涂层

在一些实施方案中，一层或多层涂层，例如用于阻挡，印刷和/或加工的涂层可施加到多层膜的外表面上。例如，涂层可直接在衔接层的外表面上(即远离芯的那些表面)，在芯层的任意一个侧面或两个侧面上，或在别处。这种涂层可包括丙烯酸类聚合物，例如乙烯丙烯酸(EAA)，乙烯丙烯酸甲酯共聚物(EMA)，聚偏二氯乙烯(PVdC)，聚(乙烯基)醇(PVOH)和EVOH。可通过乳液或溶液涂布技术或者通过共挤出和/或层压，施加涂层。

可适合于与多层膜一起使用的PVdC涂层是迄今为止在膜制造操作中用作涂层的任何已知的PVdC组合物，例如在美国专利No.4,214,039，美国专利No.4,447,494，美国专利No.4,961,992，美国专利No.5,019,447，和美国专利No.5,057,177中描述的任何PVdC材料，本文通过参考将其引入。

适合于与多层膜一起使用的已知的乙烯醇-基涂层，例如PVOH和EVOH包括VINOL^TM125或VINOL^TM 325(二者均商购于Air Products,Inc.,Allentown,Pa.)。在美国专利No.5,230,963中描述了其他PVOH涂层，本文通过参考将其引入。

在施加涂料组合物到合适的基底上之前，膜的外表面可如本文中所描述的处理，以增加其表面能。这一处理可通过使用已知技术实现，例如火焰处理，等离子体，电晕放电，膜氯化，例如将膜表面暴露于气态氯气下，用氧化剂例如铬酸处理，热空气或蒸汽处理，火焰处理等。尽管任何这些技术有效地用于预处理膜表面，但频繁地优选的方法是电晕放电，电子处理方法，其包括当使膜在一对隔开的电极之间穿过时，将膜表面暴露于高电压的电晕放电下。在膜表面的处理之后，向其上施加涂料组合物。

可作为水-基溶液施加涂料组合物到膜上。可以采用任何方便的方式，例如通过照相凹版涂布，辊涂，浸涂，和喷涂等，施加涂料组合物到处理过的表面上。可通过挤压辊，和刮刀等除去过量水溶液。

在一些实施方案中，将粘合剂置于任选地具有涂层，例如用于阻挡，印刷和/或加工的涂层的与其他外表面相对的膜的外表面上。在这种例举的实施方案中，粘合剂一侧可具有可剥离的衬里，例如用于标记应用的可剥离衬里。

添加剂

可在多层膜的一层或多层中存在的添加剂包括，但不限于，遮光剂，颜料，着色剂，空化剂，爽滑剂，抗氧化剂，防雾剂，抗静电剂，防粘连剂，填料，湿气阻挡添加剂，气体阻挡添加剂及其组合。可使用有效量的这种添加剂，所述有效量可随所要求的性能而变化。可在任何层内添加添加剂，例如氧气清除剂或气体清除剂。

爽滑剂可包括高级脂肪酸酰胺，高级脂肪酸酯，蜡，硅油，和金属皂。可使用用量范围为0.1wt％至2wt％的这种爽滑剂，基于它向其中添加的层的总重量。可能有效的爽滑添加剂的实例是高分子的PDSM(聚二甲基硅氧烷)硅酮胶。

在多层膜的一层或多层表皮层中使用的非迁移性爽滑剂可包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。非迁移性爽滑剂可具有范围为约0.5μm至8μm，或1μm至5μm，或2μm至4μm的平均粒度，这取决于层的厚度和所需的爽滑性能。备选地，在非迁移性爽滑剂，例如PMMA内粒子的尺寸可以大于含有该爽滑剂的表皮层厚度的20％，或者大于表皮层厚度的40％，或者大于表皮层厚度的50％。这种非迁移性爽滑剂的颗粒尺寸也可以至少大于表皮层厚度的10％，至少大于表皮层厚度的20％，或者至少大于表皮层厚度的40％。一般地，考虑球形、粒状的非迁移性爽滑剂，其中包括PMMA树脂，例如EPOSTAR^TM(商购于日本的Nippon Shokubai Co.,Ltd.)。还已知存在合适材料的其他商业源。非迁移性意味着这些粒子通常没有以迁移性爽滑剂的方式改变其在膜层当中的位置。还考虑常规的聚二烷基硅氧烷，例如粘度为10,000至2,000,000厘沲的硅酮油或胶添加剂。

合适的抗氧化剂可包括酚类抗氧化剂，例如1010(商购于瑞士的Ciba-Geigy Company)。这种抗氧化剂的用量范围通常为0.1wt％至2wt％，基于它向其中添加的层的总重量。

抗静电剂可包括碱金属磺酸盐，聚醚改性的聚二有机基硅氧烷，聚烷基苯基硅氧烷，和叔胺。这种抗静电剂的用量范围可以是约0.05wt％至3wt％，基于该层的总重量。

合适的防粘连剂的实例可包括二氧化硅-基产品例如44(商购于Grace Davison Products,Colombia,Md.)，PMMA粒子例如EPOSTAR^TM(商购于日本的Nippon Shokubai Co.,Ltd.)，或聚硅氧烷例如TOSPEARL^TM(商购于GE Bayer Silicones,Wilton,Conn.)。这种防粘连剂包括它向其中添加的层的重量最多约3000ppm的有效量。

有用的填料可包括微细的无机固体材料例如二氧化硅，热解法二氧化硅，硅藻土，碳酸钙，硅酸钙，硅酸铝，高岭土，滑石，膨润土，粘土和纸浆。

合适的湿气和气体阻挡添加剂可包括有效量的低分子量树脂，烃树脂，尤其石油树脂，苯乙烯树脂，环戊二烯树脂和萜烯树脂。

任选地，可用含蜡的涂料涂布一层或多层表皮层以供润滑，其用量范围为2wt％至15wt％，基于表皮层的总重量。任何常规的蜡，例如，但不限于，考虑在热塑性膜中有用的Carnauba^TM蜡(商购于Michelman Corporation,Cincinnati,Ohio)。

取向

实施方案包括多层膜的可能的单轴或双轴取向。在挤出方向上取向被称为纵向(MD)取向。垂直于挤出方向的取向被称为横向(TD)取向。可通过首先MD接着TD取向，拉伸或牵拉膜，来实现取向。也可在膜挤出工艺之后，再次通过在一个或两个方向上拉幅机取向来取向吹胀膜或流延膜。取向可以是按序或同时的，这取决于所需的膜特征。优选的取向比通常为在纵向上是挤出宽度的约三至约六倍，和在横向上是挤出宽度的约四至约十倍。典型的商业取向工艺是BOPP拉幅工艺，吹胀薄膜，和LISIM技术。

表面处理

多层膜的外表面之一或二者，和尤其密封剂层可以表面处理，以增加表面能，使得膜接收金属化，涂布，印刷油墨和/或层压。可根据本领域已知的方法之一，其中包括电晕放电，火焰，等离子体，化学处理，或者通过极化火焰的处理，从而进行表面处理。

金属化

可金属化多层膜的外表面(即远离芯的一面)和任选地之后涂布。例如，在任选地处理之后，密封剂层和/或表皮层的外表面可以经历金属化。可通过常规的方法，例如真空金属化，通过沉积金属层，例如铝，铜，金，银，锌，铬或其混合物，或任何其他金属化技术，例如电镀或溅射，进行金属化。典型地，根据ANSI/NAPM IT2.19的标准工序，施加金属层到1.5至5.0或优选1.8至4.0的光学密度(OD)。

在某些实施方案中，金属是氧化物，任何其他无机材料，或有机改性的无机材料，它们能真空沉积，电镀或溅射，例如SiOx，AlOx，SnOx，ZnOx，IrOx，有机改性的陶瓷“ormocer”等。此处整数x是1或2。沉积层的厚度范围典型地为100至5,000埃，或优选300至3000埃。

打底漆

底漆涂层可施加到多层膜的任何表面上。在这一情况下，可首先通过前述方法之一处理膜以在其上提供增加的活性粘合位点和向如此处理的膜表面上随后可施加底漆材料的连续涂层。这种底漆材料是本领域公知的，且包括例如环氧和聚(乙烯亚胺)(PEI)材料。美国专利No.3,753,769，美国专利No.4,058,645和美国专利No.4,439,493(它们各自通过参考引入)公开了这种底漆的使用和施加。底漆提供总体粘合性活性表面以供对随后施加的涂料组合物彻底和牢固的粘结，且可通过常规的溶液涂布方式施加，例如通过辊施加。

在某些实施方案中，本文中膜的特征还在于，例如通过美国专利No.8,080,294中描述的工序双轴取向，在本文中通过参考将其引入。可通过本领域已知的任何合适的技术，制造膜，例如拉幅工艺，双泡工艺，LISIM^TM或其他。进一步地，操作条件，温度设置，线速度等将随所使用的设备的类型和尺寸而变化。尽管如此，但此处一般地描述了在本发明公开内容当中描述的一种制造膜的方法。在一个特别的实施方案中，形成膜并使用“拉幅”方法双轴取向。在拉幅工艺中，熔融共混，并例如通过3，4，5，7-层模头，共挤出各种材料的片材/膜成所需的膜结构。可使用挤出机熔融共混熔融层材料，然后将熔融的物流计量到模头中。然后使用空气，水或二者，冷却挤出的片材。

在拉幅工艺的这一例举的实施方案中，第一冷却步骤下游是通过任何合适的方式，例如加热的S-缠绕辊，再加热未取向的片材到60至100或120或150℃的温度，然后在紧密隔开的不同速度的辊之间穿过，以实现纵向取向。本领域技术人员要理解，这一温度范围可以随设备，和尤其随构成膜的组分的同一性和组成而变化。理想地，温度将低于熔融膜，或者引起它变得对设备粘性和粘附，但足够高到促进纵向取向工艺的温度。值得注意的是，本文中提到的这种温度是指膜的温度本身。可例如通过红外光谱法，测量膜的温度，所述红外源的目标为正在加工的膜；本领域技术人员要理解，测量实际的膜温度可能不精确和/或完全准确。在这一情况下，已知通过任何合适的方式测量的空气或与膜紧密相邻的辊的温度，本领域技术人员可估计膜的温度。膜的加热设备可设定在任何合适的加热水平下，这取决于仪器，以实现所述或所需的膜温度。

随后，冷却变长和变薄的膜并穿过生产线的拉幅机部分以供TD取向。在这一点处，通过在连续链上的机械夹子夹持片材边缘并推入到长的精确控制的热空气烘箱内以供再加热步骤。在再加热步骤中，膜的温度范围可以是80或110至150℃或160℃。再者，温度理想地低于熔融膜但足够高到促进横向取向步骤的温度。接下来，通过在连续链上的机械夹子夹持片材边缘并推入到长的精确控制的热空气烘箱内以供横向拉伸。拉幅机链分开(diverge)所需量，在足够高到促进横向拉伸步骤但足够低到使膜没有熔融的温度下在横向上拉伸膜。在拉伸到所要求的横向取向之后，然后冷却膜到比拉伸温度低5至10或15或20或30或40℃，并在任何边缘修整之前释放机械夹子。之后，可发生任选的电晕或任何其他处理，接着缠绕。

因此，在某些实施方案中，本文描述的膜采用至少5或6或7或8倍TD取向和至少2或3或4倍MD取向进行双轴取向。

可在PSL应用中，在包装或包装制品或物品或充当标记产品用可印刷表面的其他基底上使用所制备的多层膜。尽管前面涉及所公开的发明的例举实施方案，但可在没有脱离本发明的基本范围情况下，修正其他和进一步的实施方案，其中所公开装置，体系和方法的范围通过一个或多个权利要求确定。