1.一种磁控溅射塑料靶材膜,其特征在于,由下列重量份的原料制成:ABS塑料100-150份、偶联剂10-30份、相容剂10-20份、润滑剂1-5份、抗氧化剂10-20份、增塑剂20-50份和导电助剂10-20份。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射塑料靶材膜,其特征在于,由下列重量份的原料制成:ABS塑料120份、偶联剂20份、相容剂15份、润滑剂3份、抗氧化剂15份、增塑剂30份和导电助剂15份。
3.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜,其特征在于,所述偶联剂为硅烷偶联剂KH550。
4.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜,其特征在于,所述相容剂为丙烯腈-丁二烯-苯乙烯接枝马来酸酐。
5.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜,其特征在于,所述润滑剂为液体石蜡。
6.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜,其特征在于,所述抗氧化剂为N,N-二苯基对苯胺。
7.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜,其特征在于,所述增塑剂为邻苯二甲酸甲酯。
8.根据权利要求1或2所述的磁控溅射塑料靶材膜,其特征在于,所述导电助剂为: