磁控溅射塑料靶材膜的制作方法

技术总结
本发明涉及一种磁控溅射塑料靶材膜，由下列重量份的原料制成：ABS塑料100‑150份、偶联剂10‑30份、相容剂10‑20份、润滑剂1‑5份、抗氧化剂10‑20份、增塑剂20‑50份和导电助剂10‑20份。

技术研发人员：鲁听;陈红央;劳梦斌
受保护的技术使用者：宁波威丰新材料有限公司
文档号码：201610789451
技术研发日：2016.08.31
技术公布日：2017.02.15