技术特征：
1.一种显示设备，包括：基板，所述基板包括多个子像素以及设置在所述多个子像素的每一个的一侧上的多个接触部；设置在所述基板上的绝缘层；第一电极，所述第一电极位于所述绝缘层上并且设置在所述多个子像素的每一个中以及所述多个接触部的每一个中；设置在所述第一电极上的围栏部；设置在所述绝缘层、所述围栏部和所述第一电极上的发光层；设置在所述发光层上的第二电极；设置在所述第二电极上的填充层；以及设置在所述围栏部和所述绝缘层中的沟槽，其中所述沟槽包括设置在彼此相邻的接触部之间的第一沟槽以及设置在彼此相邻的子像素之间的第二沟槽，所述发光层包括位于所述第二沟槽中的空隙，所述空隙被填充与构成所述填充层的材料相同的填充物。2.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述第一沟槽的宽度大于所述第二沟槽的宽度。3.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述第一沟槽和所述沟槽彼此连接。4.根据权利要求1所述的显示设备，其中所述第二电极沿着所述第一沟槽的内部是连续的并且具有凹形，所述填充层填充所述第二电极的凹部区域的至少一部分。5.根据权利要求1所述的显示设备，其中设置在所述第一沟槽的内部的发光层包括依次堆叠的第一叠层、电荷生成层和第二叠层，其中所述第一叠层、所述电荷生成层和所述第二叠层在所述第一沟槽的内部彼此连接。6.根据权利要求5所述的显示设备，其中填充所述空隙的填充物与设置在所述第一沟槽的内部的第一叠层、电荷生成层和第二叠层接触。7.根据权利要求1所述的显示设备，其中：设置在与所述第二沟槽交叠的区域中的发光层包括第一叠层、电荷生成层和第二叠层，所述电荷生成层在所述第二沟槽的内部是断开的。8.根据权利要求7所述的显示设备，其中设置在所述第一沟槽中的填充层接触与和所述第二沟槽交叠的区域接触的电荷生成层和第二叠层。9.根据权利要求1所述的显示设备，还包括：位于所述绝缘层的内部的第一反射电极、第二反射电极和第三反射电极。10.根据权利要求9所述的显示设备，其中：所述多个子像素包括第一子像素、第二子像素和第三子像素，所述绝缘层通过在电路元件层上依次堆叠第一绝缘层、第二绝缘层和第三绝缘层而形成，所述第一反射电极设置在所述第一子像素的区域中的第一绝缘层上，所述第二反射电极设置在所述第二子像素的区域中的第二绝缘层上，
所述第三反射电极设置在所述第三子像素的区域中的第三绝缘层上。11.根据权利要求5所述的显示设备，其中所述空隙和所述填充层的一端形成在比所述电荷生成层高的位置处。12.根据权利要求1所述的显示设备，其中在对应于所述第一沟槽的区域中设置有开口，并且其中所述填充层通过所述开口填充所述第一沟槽的整个内部区域，并且基于所述第二沟槽扩展到所述空隙以填充所述第二沟槽的内部空间。13.一种显示设备，包括：包括多个子像素的基板；第一电极，所述第一电极设置在位于所述基板上的多个子像素的每一个中；设置在所述第一电极上的发光层；设置在所述发光层上的第二电极；设置在所述第二电极上的填充层；以及设置在所述多个子像素之间的沟槽，其中所述沟槽包括具有第一宽度的第一沟槽和具有小于所述第一宽度的第二宽度的第二沟槽，其中所述发光层的一部分在所述第一沟槽中是连续的并且在所述第二沟槽中是断开的。14.根据权利要求13所述的显示设备，其中所述发光层的所述一部分包括电荷生成层。15.根据权利要求13所述的显示设备，其中所述发光层包括在所述第二沟槽中的空隙，并且所述空隙被填充与构成所述填充层的材料相同的填充材料。16.根据权利要求13所述的显示设备，其中所述发光层不具有在所述第一沟槽中的空隙。17.根据权利要求13所述的显示设备，其中所述第二沟槽设置在第一子像素的第一电极和第二子像素的第一电极之间，并且所述第一沟槽设置在位于所述第一子像素的一侧上的第一接触部和位于所述第二子像素的一侧上的第二接触部之间。18.根据权利要求13所述的显示设备，其中：所述多个子像素包括第一子像素、第二子像素、第三子像素和第四子像素之间，所述第一子像素与所述第二子像素和所述第四子像素相邻，所述第二子像素与所述第一子像素和所述第三子像素相邻，所述第三子像素与所述第二子像素和所述第四子像素相邻，第一接触部、第二接触部、第三接触部和第四接触部分别设置在所述第一子像素、所述第二子像素、所述第三子像素和所述第四子像素的拐角区域处，所述第一沟槽设置在所述第一接触部、所述第二接触部、所述第三接触部和所述第四接触部的中心处，所述第二沟槽设置在彼此相邻的子像素之间以及彼此相邻的接触部之间的区域中。19.根据权利要求18所述的显示设备，其中：所述第一子像素、所述第二子像素、所述第三子像素和所述第四子像素构成一个像素，所述第一沟槽设置在所述像素的拐角处，所述第二沟槽连接所述第一沟槽并且围绕所述像素。20.根据权利要求15所述的显示设备，其中所述发光层包括依次堆叠的第一叠层、电荷
生成层和第二叠层，其中所述空隙和所述填充层的一端形成在比所述电荷生成层高的位置处。
技术总结
公开一种显示设备，包括：基板，包括多个子像素以及设置在所述多个子像素的每一个的一侧上的多个接触部；设置在所述基板上的绝缘层；第一电极，所述第一电极位于所述绝缘层上并且设置在所述多个子像素的每一个中以及所述多个接触部的每一个中；设置在所述第一电极上的围栏部；设置在所述绝缘层、所述围栏部和所述第一电极上的发光层；设置在所述发光层上的第二电极；设置在所述第二电极上的填充层；以及设置在所述围栏部和所述绝缘层中的沟槽，其中所述沟槽包括设置在彼此相邻的接触部之间的第一沟槽以及设置在彼此相邻的子像素之间的第二沟槽，所述发光层包括位于所述第二沟槽中的空隙，所述空隙填充有与构成所述填充层的材料相同的填充物。的材料相同的填充物。的材料相同的填充物。
技术研发人员：林亨俊 金豪镇
受保护的技术使用者：乐金显示有限公司
技术研发日：2021.12.24
技术公布日：2022/7/1