1.一种有机el显示器的制造方法，其特征在于：
包括光学部件形成步骤，所述光学部件形成步骤在预先形成有有机发光二极管的基片上涂敷包含液晶分子和溶剂的光学膜用涂敷液并使其干燥，来形成液晶分子已取向的光学膜。
2.如权利要求1所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
所述光学部件形成步骤包括：
第一光学膜形成步骤，其在预先形成有所述有机发光二极管的所述基片上涂敷包含液晶分子和溶剂的第一光学膜用涂敷液并使其干燥，来形成作为相位差膜和偏振膜的任一者的第一光学膜；以及
第二光学膜形成步骤，其在所述第一光学膜形成步骤之后，将包含液晶分子和溶剂的第二光学膜用涂敷液涂敷在所述第一光学膜上并使其干燥，来形成作为所述相位差膜和所述偏振膜的其余一者的第二光学膜。
3.如权利要求2所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
所述光学部件形成步骤包括中间膜形成步骤，所述中间膜形成步骤在所述第一光学膜形成步骤之后所述第二光学膜形成步骤之前，将不同于所述第一光学膜用涂敷液的中间膜用涂敷液涂敷在所述第一光学膜上并使其干燥，来形成中间膜。
4.如权利要求3所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
所述光学部件形成步骤包括第一光学膜图案化步骤，所述第一光学膜图案化步骤在所述中间膜形成步骤之后所述第二光学膜形成步骤之前，将仅覆盖所述第一光学膜的一部分的所述中间膜作为掩模使用，来除去所述第一光学膜的其余部分。
5.如权利要求4所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
在所述第一光学膜图案化步骤中，使用溶解所述第一光学膜的清洗液。
6.如权利要求5所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
在所述第一光学膜形成步骤中，仅使所述第一光学膜的所述一部分不溶于所述第一光学膜图案化步骤中使用的所述清洗液。
7.如权利要求5或6所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
在所述中间膜形成步骤中，仅在所述第一光学膜的所述一部分涂敷所述中间膜用涂敷液，由此仅使所述第一光学膜的所述一部分不溶于所述第一光学膜图案化步骤中使用的所述清洗液。
8.如权利要求3所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
所述光学部件形成步骤包括第一光学膜图案化步骤，所述第一光学膜图案化步骤在所述第一光学膜形成步骤之后所述中间膜形成步骤之前，使所述第一光学膜的一部分残留，除去所述第一光学膜的其余部分。
9.如权利要求8所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
在所述第一光学膜图案化步骤中，仅使所述第一光学膜的所述一部分不溶于溶解所述第一光学膜的清洗液，之后，用所述清洗液溶解所述第一光学膜的所述其余部分。
10.如权利要求8或9所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
在所述中间膜形成步骤中，以覆盖所述第一光学膜的主表面和所述第一光学膜的端面的方式形成所述中间膜。
11.如权利要求3～10中任一项所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
所述光学部件形成步骤包括保护膜形成步骤，所述保护膜形成步骤在所述第二光学膜形成步骤之后，将不同于所述第二光学膜用涂敷液的保护膜用涂敷液涂敷在所述第二光学膜上并使其干燥，来形成保护所述第二光学膜的保护膜。
12.如权利要求11所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
所述光学部件形成步骤包括第二光学膜图案化步骤，所述第二光学膜图案化步骤在所述保护膜形成步骤之后，将仅覆盖所述第二光学膜的一部分的所述保护膜作为掩模使用，来除去所述第二光学膜的其余部分。
13.如权利要求12所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
在所述第二光学膜图案化步骤中，使用溶解所述第二光学膜的清洗液。
14.如权利要求13所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
在所述第二光学膜形成步骤中，仅使所述第二光学膜的所述一部分不溶于所述第二光学膜图案化步骤中使用的所述清洗液。
15.如权利要求13或14所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
在所述保护膜形成步骤中，仅在所述第二光学膜的所述一部分涂敷所述保护膜用涂敷液，由此仅使所述第二光学膜的所述一部分不溶于所述第二光学膜图案化步骤中使用的所述清洗液。
16.如权利要求11所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
所述光学部件形成步骤包括第二光学膜图案化步骤，所述第二光学膜图案化步骤在所述第二光学膜形成步骤之后所述保护膜形成步骤之前，使所述第二光学膜的一部分残留，除去所述第二光学膜的其余部分。
17.如权利要求16所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
在所述第二光学膜图案化步骤中，仅使所述第二光学膜的所述一部分不溶于溶解所述第二光学膜的清洗液，之后，用所述清洗液溶解所述第二光学膜的所述其余部分。
18.如权利要求16或17所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
在所述保护膜形成步骤中，以覆盖所述第二光学膜的主表面和所述第二光学膜的端面的方式形成所述保护膜。
19.如权利要求1～18中任一项所述的有机el显示器的制造方法，其特征在于：
包括触摸传感器形成步骤，所述触摸传感器形成步骤在所述光学部件形成步骤之前，在预先形成有所述有机发光二极管的所述基片上形成触摸传感器，
所述触摸传感器形成步骤包括：
在预先形成有所述有机发光二极管的所述基片上形成遮光性的第一金属膜的步骤；
通过光刻法和蚀刻法选择性地除去所述第一金属膜的一部分的步骤；
在选择性地除去了一部分的所述第一金属膜上形成绝缘膜的步骤；
在所述绝缘膜上形成遮光性的第二金属膜的步骤；和
通过光刻法和蚀刻法选择性地除去所述第二金属膜的一部分的步骤。